旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响

• 作者: 于宝海 孙超 宫骏 肖金泉 赵彦辉 郎文昌 闻立时
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 旋转横向磁场 电弧离子镀 有限元分析 阴极弧斑运动
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 等离子体技术
• 页码范围: 316-322
• 分类号: TB43|TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.03.12

摘要

研究了旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响规律,采用有限元分析软件FEMM对旋转横向磁场的分布进行了模拟,考察了不同频率(80～210Hz)及电磁线圈励磁电流对弧斑运动的影响.从电弧斑点放电的物理机制出发,探讨了不同频率和磁场线圈电流对电弧离子镀弧斑运动的影响机制.结果表明,随着旋转横向磁场强度和频率的提高,使弧斑逐渐从聚集的斑点态(或者弱分散的团絮态)转变为大面积分布在靶面较强的分散弧斑絮线,最后转变为完全分布在整个靶面的强分散弧斑线,弧斑分裂强烈,产生的弧光等离子体更加均匀细腻.随着瞬态弧斑线在靶面分布面积的增加,弧压增加,弧电流密度急剧下降,靶材利用率达到85％以上.旋转横向磁场的应用,带来了弧斑大面积稳定放电、等离子离化率、密度及靶材利用率大幅度提高的多重效应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙超	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	126	1708	23.0	34.0
2	宫骏	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	52	464	12.0	20.0
3	于宝海	中国科学院金属研究所专用材料与器件研究部	23	138	6.0	11.0
4	肖金泉	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	21	112	7.0	10.0
5	赵彦辉	中国科学院金属研究所专用材料与器件研究部	20	60	5.0	6.0
6	郎文昌	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	3	11	2.0	3.0