Cu(Ni80 Cr20)-陶瓷复合机体的激光刻蚀机制

• 作者: 吴敢 杨建平 王瑞 韦波
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光 激光刻蚀 复合机体 物理机制
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 新材料新工艺
• 页码范围: 53-56
• 页数: 4页
• 分类号: TN249
• 字数: 3098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2330.2015.01.014

摘要

为解决陶瓷基底金属薄膜一体化部件的激光微加工精度问题,研究了纳秒脉冲激光作用于Cu(Ni80 Cr20)-Al2 O3复合机体的薄膜/基底界面分离机制.结果表明:激光刻蚀Cu时,光斑扫过的区域的Cu能够完全气化,得到较光滑的图案;在刻蚀Ni80Cr20时,光斑扫过的区域首先被氮化,随后氮化层剥离,导致刻蚀图形边沿粗糙.激光光斑能量呈高斯分布,使得Ni80Cr20氮化程度不均匀,是影响刻蚀精度的主要原因.利用波前衍射变换技术将光斑能量由高斯分布转换为能量呈平顶分布,在激光能量大于5.4mJ时,厚度4μm的Ni80Cr20层均匀氮化剥离,实现了Ni80Cr20-Al2O3组合体高精度、基底无损伤刻蚀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韦波	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	1	0	0.0	0.0
2	王瑞	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	6	23	2.0	4.0
3	吴敢	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	4	23	2.0	4.0
4	杨建平	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	5	25	2.0	5.0