基于荧光共聚焦技术熔石英亚表层损伤检测方法

• 作者: 张磊 王景贺 王洪祥 郭海涛
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 熔石英 亚表层损伤 共聚焦显微技术
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 186-194
• 页数: 9页
• 分类号: TG356.28
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201542.0406004

摘要

熔石英光学材料是一种高新技术产品,在现代各领域的应用越来越广泛,特别是航天航空等领域具有大量应用需求.由于其产品的制造难度较大,因此其成品质量的高低就成为人们最为关注的问题,其中尤以亚表层损伤的问题至关重要.论述了几种常用的亚表层损伤检测方法和原理,分析了其优缺点.在此基础上说明了使用荧光共聚焦显微技术来检测光学元件亚表层损伤的可行性和准确性.使用共聚焦激光扫描显微镜对熔石英玻璃试件的亚表层损伤进行了检测实验.对比了角度抛光法所得到的两种荧光量子点亚表层损伤深度,可以明确在一定的加工条件下亚表层损伤的分布情况.使用图像处理软件Image-Pro Plus 6.0分析了亚表层损伤的分布图像及分布密度,定量的给出了亚表层损伤的基本规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张磊		159	1265	17.0	29.0
2	王洪祥		67	690	16.0	23.0
3	王景贺		33	381	12.0	19.0
4	郭海涛		10	93	5.0	9.0