多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析

• 作者: 杜昊 王向红 肖金泉 谢婷婷 郎文昌 高斌
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 机械式旋转磁控弧源 旋转不对称偏心轴向磁场 旋转偏心横向磁场 旋转偏心四极对顶磁场 旋转偏心拱形磁场
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺设备
• 页码范围: 662-670
• 分类号: TB43|TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.06.05

摘要

电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要.本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发,分析讨论了不同模式的旋转磁场对阴极斑点运动的影响机理.研究结果表明,多模式旋转磁场可以有效提高弧斑的运动速度、扩大放电面积、降低放电功率密度、减少大颗粒的发射,同时还能够大幅度提高靶材的利用率,拓展电弧离子镀的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜昊	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	24	169	8.0	11.0
2	肖金泉	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	21	112	7.0	10.0
3	王向红	温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室	25	71	5.0	7.0
4	高斌	温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室	17	53	5.0	6.0
5	郎文昌	温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室	8	33	4.0	5.0
6	谢婷婷	温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室	3	11	2.0	3.0