电场激活Ti/Ni扩散偶连接界面相变规律与力学性能的研究

• 作者: 孟庆森 樊文浩 胡利方 董凤 陈少平
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电场激活 扩散连接 相变 Ti/Ni 剪切强度
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 349-354
• 页数: 6页
• 分类号: TB331
• 语种: 中文

摘要

本试验采用电场激活扩散连接技术(FADB)实现了Ti/Ni的扩散连接.研究了Ti/Ni两种材料发生界面扩散反应时新相的生成规律及其对连接强度的影响.利用扫描电子显微镜及能谱仪观察和分析了扩散层的显微组织、相组成和界面元素分布.采用万能试验机对扩散层的抗剪切性能进行了测试.研究结果表明,在电场作用下,Ti与Ni通过固相扩散形成了良好的冶金结合界面,界面处金属间化合物的生成次序依次为Ni3Ti、NiTi2、NiTi.当扩散温度≥750℃时,Ti表现出超塑性和良好的扩散性,促使扩散层中的Ni3Ti转变成富钛层,该富钛层的形成有利于接头强度的提高.界面的剪切强度随着电流的增大而增大,当电流为930～1200A时,界面的剪切强度可达90.54 MPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈少平		43	111	7.0	9.0
2	孟庆森		92	422	11.0	16.0
3	胡利方		18	54	4.0	7.0
4	樊文浩		21	32	3.0	4.0
5	董凤		3	5	1.0	2.0