石墨-铜扩散连接的界面行为

• 作者: 朱益军 李启寿 李强 杨勇 程亮 蔡永军
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 石墨 铜 连接 界面结构
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 732-737
• 页数: 6页
• 分类号: TG146.1+1
• 语种: 中文

摘要

以AgCuTi合金粉末为过渡层,采用扩散连接法对石墨与铜进行扩散连接实验.利用X射线衍射仪、扫描电镜、金相显微镜及万能材料实验机对连接界面的性能及微观形貌进行研究.研究结果表明:在工艺参数为 870℃/200 kPa/10 min的条件下可实现石墨-Cu连接,其接头界面组织结构为石墨/TiC/铜基固溶体+富银区/铜;接头剪切强度为17 MPa,断裂在石墨母材;并分析了石墨/Ag-Cu-Ti/铜真空加压烧结接头的形成机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李强		54	152	8.0	10.0
2	杨勇		41	102	5.0	8.0
3	蔡永军		6	14	2.0	3.0
4	程亮		18	37	4.0	5.0
5	李启寿		14	35	4.0	5.0
6	朱益军		2	2	1.0	1.0