半导体单晶抛光片清洗工艺研究

• 作者: 袁绪泽
• 来源期刊: 通讯世界：下半月
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体 单晶抛光片 清洗工艺
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 页码范围: 270-271
• 页数: 2页
• 分类号: TN305.2

摘要

半导体单晶抛光片是当前一种十分重要的材料，对于大规模集成电路和半导体器件的应用有着巨大的作用。本文主要以硅、砷化镓、锗等半导体单晶抛光片为例，对其清洗工艺和清洗机理进行了研究。具体来说，先采用氧化性的溶液在抛光片表面产生氧化膜，然后再将形成的氧化膜去除，从而实现抛光片表面杂质和污染物的清除。对这种氧化、剥离的清洗原理进行应用，能够有效的提高半导体单晶抛光片的清洗工艺和技术水平，从而为清洗工艺的优化与改善提供参考和借鉴。

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序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁绪泽		3	1	1.0	1.0