化学气相沉积法制备（类）金刚石薄膜专利技术分析

• 作者: 汤庆新
• 来源期刊: 科技视界
• 关键词: 化学气相沉积 金刚石 类金刚石 热丝CVD 等离子CVD
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 姻姻姻探索与争鸣
• 页码范围: 297-299
• 页数: 3页
• 字数: 4538字
• 语种: 中文

摘要

本文主要对化学气相沉积法制备(类)金刚石薄膜专利申请中专利申请的年度变化趋势、专利申请国家/地区布局、制备方法、申请人类型、专利技术改进方向、国内外主要申请人技术演进和发展等方面进行分析。研究表明，日本、美国等在该领域处于绝对领先地位，近年来国内的研究已取得了重大的进展，正在逐渐缩小与国外技术差距，切削加工和耐磨部件等应用领域是申请热点。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤庆新		1	1	1.0	1.0