湿法刻蚀FI CD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究

• 作者: 刘还平 王晏酩 翁超 肖红玺 范学丽 陈启省 靖瑞宽
• 来源期刊: 液晶与显示
• 关键词: TFT-LCD 湿法刻蚀 FI CD 均一性
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 67-73
• 页数: 7页
• 字数: 2569字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20163101.0067

摘要

随着高分辨率产品导入,TFT-LCD阵列段各项参数范围越来越小,工艺要求更为严格,为了更好地管控湿法刻蚀各项参数,本文以湿法刻蚀FI CD(Final Inspection Critical Dimension)均一性的影响因素及如何提高FI CD均一性为目的进行研究.首先,通过对湿法刻蚀设备参数(主要包括刻蚀液温度、流量、压力、浓度、Nozzle Sliding、Oscillation Speed、刻蚀时间等)进行试验,验证各项参数对FI CD均一性的影响.其次,对沉积工序、曝光工序以及产品设计等进行试验,获悉影响因素并进行改善.通过对湿法刻蚀设备自身参数的调整,如减少设备温度、流量、压力波动,使参数保持相对稳定状态,可有效改善湿法刻蚀FI CD均一性,FI CD的均一性可从1.0降低至0.5.通过对湿法刻蚀设备参数进行试验并做相应调整,湿法刻蚀FI CD均一性改善效果显著.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖红玺		2	7	2.0	2.0
2	王晏酩		3	9	2.0	3.0
3	范学丽		1	5	1.0	1.0
4	靖瑞宽		1	5	1.0	1.0
5	翁超		1	5	1.0	1.0
6	陈启省		1	5	1.0	1.0
7	刘还平		1	5	1.0	1.0