灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响

• 作者: 周明于 赵志岩 郝超
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝化学气相沉积 金刚石厚膜 灯丝间距 围挡
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 页码范围: 31-33
• 分类号: TQ164
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

摘要

采用热丝化学气相沉积方法制备CVD金刚石厚膜,通过改变灯丝间距和增加围挡,获得生长速度7.5 μm/h,热导率1028 W/(m·K),结构致密,无孔洞,甚至透红光的CVD金刚石厚膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵志岩		1	0	0.0	0.0
2	周明于		1	0	0.0	0.0
3	郝超		1	0	0.0	0.0