工艺参数对图案化金属铜膜结构和光学性能的影响

• 作者: 李星星 王红红 苏江滨 蒋美萍
• 来源期刊: 常州大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 小入射角沉积 图案化金属铜膜 晶体结构 反常光学吸收
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 23-27
• 页数: 5页
• 分类号: O434.2|O469
• 字数: 3560字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-0411.2016.01.005

摘要

为了系统研究工艺参数对图案化金属铜膜的影响,进一步优化产物的结构和光学性能,研究通过改变薄膜厚度、衬底偏压和衬底温度等工艺参数在玻璃衬底上沉积了图案化金属铜膜.利用粉末X射线衍射仪和紫外可见分光光度计分别研究了工艺参数对图案化金属铜膜的晶体结构和光学吸收特性的影响.研究结果表明,在晶体结构方面,图案化金属铜膜具有良好的Cu(111)择优取向,并且衍射峰强度随薄膜厚度、衬底温度的增加而增强,随衬底偏压的增加而减弱.在光学性质方面,图案化金属铜膜在630～660nm红光波段出现反常光学吸收.而且,吸收峰的强度、峰位和半高宽可以通过调节薄膜厚度、衬底偏压和衬底温度加以控制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋美萍	常州大学数理学院	12	16	2.0	4.0
2	王红红	常州大学数理学院	2	0	0.0	0.0
3	苏江滨	常州大学数理学院	8	5	2.0	2.0
4	李星星	常州大学数理学院	1	0	0.0	0.0