制备工艺参数对无氢类金刚石薄膜结构及光学性能的影响

• 作者: 冯建 姜宏 张振华 那聪 马艳平
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石薄膜 磁控溅射 透过率 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 40-46,75
• 页数: 8页
• 分类号: TB34
• 字数: 5556字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14136/jc.nkii.ssn1673-2812.2019.01.008

摘要

采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片上制备了无氢DLC薄膜.采用多种技术手段表征了不同工艺参数下制备的DLC薄膜的结构及光学性能.结果表明,溅射功率、工作气压、基底温度和氩气流量的变化对薄膜结构、透过率和光学带隙有较大影响.薄膜内部sp3键含量、可见光透过率及光学带隙都随溅射功率或基底温度的增加而减小,随工作气压的增大而增加,随氩气流量的增加先增大后减小.在工作气压为2.0 Pa时,可制备出ID/IG为0.86、可见光区平均透过率为85％ 、光学带隙为1.68eV的DLC薄膜.