化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展

• 作者: 彭雨晴 李照谦 李爱军 李琳琳 汤哲鹏
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 界面相涂层 氮化硼 化学气相沉积 三氯化硼 氨气
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 8-12,28
• 页数: 6页
• 分类号: TB3
• 字数: 4734字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2330.2016.04.002

摘要

阐述了BN界面的优异性能和CVD制备工艺的优缺点,主要介绍了CVD-BN制备过程中沉积温度、源气体比例、热处理温度等各因素的影响,指出CVD法是制备高品质BN界面涂层的优选方法.优化CVD工艺,对其制备原理进行深入研究,将是BN界面涂层研究的重点,获得特定结构、性能稳定、厚度可控的BN界面相涂层是CVD法制备BN界面相涂层的难点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李爱军	上海大学材料复合及先进分散技术教育部工程中心	23	73	5.0	7.0
2	彭雨晴	上海大学材料复合及先进分散技术教育部工程中心	12	17	3.0	4.0
3	汤哲鹏	上海大学材料复合及先进分散技术教育部工程中心	6	8	2.0	2.0
4	李琳琳	上海大学材料复合及先进分散技术教育部工程中心	1	5	1.0	1.0
5	李照谦		3	12	2.0	3.0