低介电常数聚酰亚胺基多孔复合材料的研究进展

• 作者: 杨大令 王立久 韩晓倩
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 化学
• 关键词: 介电常数 聚酰亚胺 多孔 层间绝缘材料
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 热点评述
• 页码范围: 843-847,829
• 分类号: O631
• 语种: 中文
• DOI: 10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2016.05.032

摘要

随着微电子工业的迅速发展,对层间绝缘材料提出了更高的要求.聚酰亚胺因其良好的热稳定性和较低的介电常数被广泛应用于大规模集成电路的层间绝缘材料.本文主要对低介电常数聚酰亚胺基复合材料的制备方法进行了综述,着重介绍了笼型倍半硅氧烷(POSS)、多孔SiO2、蒙脱石、多金属氧酸盐(POMs)、石墨烯衍生物的引入在降低聚酰亚胺介电常数方面的应用,并对低介电常数聚酰亚胺的发展前景进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王立久	大连理工大学建设工程学部	219	2478	27.0	36.0
2	杨大令	大连理工大学建设工程学部	37	300	10.0	15.0
3	韩晓倩	大连理工大学建设工程学部	1	4	1.0	1.0