Si衬底表面圆柱孔形抗反射周期微结构的设计及制造

• 作者: 付跃刚 董亭亭
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 抗反射结构 反应离子刻蚀 严格耦合波分析 圆柱孔微结构
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 所属期刊栏目: 等离子体技术
• 页码范围: 1144-1148
• 分类号: O485|TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.10.10

摘要

在本征硅片表面设计并制作了一种圆柱孔形抗反射微结构.基于严格耦合波分析方法,通过数值计算及模拟仿真确定了微结构最优参数组合,设计反射率小于3％.应用二元曝光、湿法腐蚀和反应离子刻蚀技术制作了单面和双面抗反射周期阵列微结构.根据测试结果判断反应气体流量、射频功率及工作气压等工艺参数对微结构形貌及侧壁陡直度具有很大影响,经过实验分析确定了最佳工艺参数组合.采用热场发射扫描电子显微镜和白光干涉仪对该结构进行形貌表征,利用显微成像红外光谱仪对其反射率进行测量.最终结果表明,相比于单面微结构和无结构本征硅片,双面微结构抗反射效果最好,得到反射率为8％左右,基本达到抗反射设计要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付跃刚	长春理工大学光电工程学院	106	456	10.0	15.0
2	董亭亭	长春理工大学光电工程学院	5	16	3.0	4.0