La0.56 Li0.33 TiO3薄膜的制备及退火对其光电性能的影响

• 作者: 乔恺 周矗 李合琴 王伟 陶磊
• 来源期刊: 合肥工业大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 钛酸镧锂薄膜 射频磁控溅射 退火 离子电导率 光电性能
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: ?材料科学与工程?
• 页码范围: 324-327
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2291字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5060.2016.03.007

摘要

文章采用射频磁控溅射法在氧化铟锡（indium-tin oxide ，ITO ）玻璃衬底上制备了钛酸镧锂（lithium lanthanum titanate ，LLTO）薄膜，并在氩气中经100、200、300℃退火2 h。对薄膜的形貌、结构、离子电导率和光电性能进行测试。结果表明，室温下制备的LLTO薄膜为非晶态，随着退火温度的升高，薄膜的离子电导率和可见光透过率均随之升高，经300℃氩气气氛退火后，薄膜的离子电导率为5.0×10－6 S／cm ，可见光平均透过率为89％。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王伟	合肥工业大学材料科学与工程学院	162	1275	18.0	27.0
2	李合琴	合肥工业大学材料科学与工程学院	71	273	8.0	12.0
3	陶磊	合肥工业大学材料科学与工程学院	7	39	3.0	6.0
4	周矗	合肥工业大学材料科学与工程学院	16	34	4.0	4.0
5	乔恺	合肥工业大学材料科学与工程学院	10	27	4.0	4.0