磁控溅射参数对(Ba,Sr)TiO3薄膜择优取向生长的影响

• 作者: 于军 刘根华 张发生 王梦
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: BST 择优取向 磁控溅射 形核
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 页码范围: 52-57
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3595字
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了(Ba,Sr)TiO3薄膜.基于薄膜的形核理论,研究了溅射气压、靶基距、衬底温度和溅射功率等溅射参数对(Ba,Sr) TiO3薄膜择优取向生长的影响.实验结果表明:磁控溅射中,较高衬底温度(600℃)有助于钙钛矿成相；通过改变磁控溅射参数,能得到(111)、(001)、(110)择优取向的薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于军	华中科技大学电子科学与技术系	103	537	11.0	16.0
2	张发生	中南林业科技大学计算机与信息工程学院	13	49	5.0	6.0
3	王梦	中南林业科技大学计算机与信息工程学院	2	12	2.0	2.0
4	刘根华	中南林业科技大学计算机与信息工程学院	2	10	1.0	2.0