TFT 光刻 DICD 均一性改善优化

• 作者: 岳浩 张玉虎 李亚文 王军帽
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: DICD 最佳焦平面 平坦度 均一性 最小二乘法
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 所属期刊栏目: ?材料与器件?
• 页码范围: 929-935
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2847字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20163110.0929

摘要

为了对 TFT((Thin Film Transistor)光刻 DICD(Develop Inspection Critical Dimension)均一性进行改善,分析了光刻 DICD 存在差异性的原因,并建立了改善循环流程。对循环流程改善原理及方法进行说明。首先,根据处于光刻系统最佳焦平面位置光刻胶吸收光强最大,DICD 最小(DICDmin )原则,提出了调整光刻平面,使其与系统最佳焦平面趋势一致,可减小 DICD 差异性。接着,计算出各光刻区域与最佳焦平面位置处的 DICD 差值(DICD-DICDmin ),并通过结合光刻区域台板平坦度,判断 DICD-DICDmin 各差值的正负性。然后,采用最小二乘法对光刻区域 DICD-DICDmin 进行平面方程拟合,该平面即为光刻趋势平面,并反映了光刻平面与光刻系统最佳焦平面的差异。最后,以此平面方程作为光刻机台板高度调整平面方程,并对光刻区域台板高度进行调整,从而使得实际光刻平面趋于系统最佳焦平面。结果表明：该方法连续实验3次,DICD 均一性可改善30％以上。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张玉虎		4	9	2.0	3.0
2	岳浩		1	6	1.0	1.0
3	王军帽		1	6	1.0	1.0
4	李亚文		4	9	2.0	3.0