CVD金刚石化学机械抛光工艺研究

• 作者: 李强 杜海洋 苑泽伟 金洙吉
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: CVD金刚石 化学机械抛光 工艺 高铁酸钾
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 页码范围: 73-79
• 页数: 7页
• 分类号: TH161
• 字数: 5391字
• 语种: 中文

摘要

本文提出采用化学机械抛光的新工艺实现传统方法无法达到的超光滑、低损伤的表面抛光.本文在对金刚石氧化的化学热动力学研究基础上,配制了以高铁酸钾为主要氧化剂的化学机械抛光液,指出加快化学机械抛光过程金刚石氧化的工艺措施.研制了用于CVD金刚石化学机械抛光的可加热抛光头和摩擦力测量装置,着重研究了CVD金刚石的化学机械抛光工艺.试验得到最佳的抛光工艺参数:抛光压力为266.7 kPa,抛光盘转速为70 r/min,抛光头转速为23 r/min,抛光温度为50℃.化学机械抛光的摩擦系数在0.060 ～0.065范围内变化,为混合润滑状态.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李强		32	199	6.0	13.0
2	金洙吉	大连理工大学教育部精密与非传统加工教育部重点实验室	105	1334	18.0	32.0
3	苑泽伟		11	28	4.0	5.0
4	杜海洋		2	14	2.0	2.0