CVD金刚石厚膜的机械抛光研究

• 作者: 严朝辉 汪建华 满卫东 熊军
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: CVD金刚石膜 研磨 抛光
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2522字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2007.03.009

摘要

化学气相沉积(CVD)制备的金刚石膜表面粗糙且厚薄不均匀,在许多情况下不能直接使用,必须对其进行抛光.本文研究了不同型号的金刚石微粉对CVD金刚石厚膜研磨的影响,通过对研磨结果的比较分析,优化出一种高质量高效率的抛光方法,即先采用W40和W28金刚石微粉,分别研磨2 h,然后用W0.5金刚石微粉研磨4 h.经扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)测试分析表明:金刚石膜的平均去除率为12.2 μm/h,粗糙度Ra由4.60 μm降至3.06 nm,说明该抛光方法能实现金刚石膜高质量、高效率的抛光.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
2	满卫东	武汉工程大学湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室	45	370	11.0	16.0
3	熊军	武汉工程大学湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室	4	35	3.0	4.0
4	严朝辉	武汉工程大学湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室	3	28	2.0	3.0