化学气相沉积法制备h-BN

• 作者: 刘云圻 杨云畅 武斌 王立锋
• 来源期刊: 科学通报
• 关键词: 六方氮化硼 化学气相沉积法 可控生长 反应前驱物 基底
• 年，卷（期）: 2017,（20）
• 所属期刊栏目: 评述
• 页码范围: 2195-2207
• 页数: 13页
• 语种: 中文
• DOI: 10.1360/N972016-01381

摘要

六方氮化硼是一种与石墨烯结构类似的二维层状宽带隙绝缘材料,具有各种优异的物理性质.例如,它具有优异的力学性质和化学、热稳定性,在非线性光学领域、紫外激光器以及保护层材料方面具有潜在的应用.另外,由于其表面具有原子级平整,不存在悬挂键和陷阱电荷,使其成为石墨烯电学器件的一种优异的介电材料.它还可与其他二维材料组成平面/垂直结构的异质结,展现出各种新奇的性能和在电子器件方面的潜在应用.如何可控制备大面积、高质量的六方氮化硼是目前研究的核心科学问题.本文主要综述了通过化学气相沉积法制备六方氮化硼的一系列工作,其中包括最新的研究进展,对反应前驱体和基底的选择做了详细的介绍和讨论,并展望了该领域的发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘云圻	中国科学院化学研究所	40	551	14.0	22.0
2	武斌	中国科学院化学研究所	32	525	8.0	22.0
3	杨云畅	中国科学院化学研究所	2	3	1.0	1.0
4	王立锋	中国科学院化学研究所	1	0	0.0	0.0