微/纳米CVD金刚石涂层沉积工艺参数优化

• 作者: 解亚娟 许晨阳 邓福铭 陈立 雷青
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 碳源浓度 沉积气压 热丝与基体间距
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 页码范围: 890-896
• 页数: 7页
• 分类号: O781
• 字数: 4245字
• 语种: 中文

摘要

通过正交实验设计工艺参数,利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)制备金刚石涂层,采用扫描电镜、洛氏硬度计、X射线衍射仪等对金刚石涂层进行性能表征,同时进行切削试验,从而确定微米层和纳米层最佳的碳源浓度、沉积气压、热丝与基体间距.结果表明:最优微米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度2%,沉积气压3 kPa,热丝/基体间距5 mm.最优纳米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度5%,沉积气压5 kPa,热丝/基体间距8 mm.