扫描干涉场曝光中光栅掩模槽形轮廓的预测

• 作者: 张鸣 朱煜 杨开明 王磊杰 鲁森
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光栅 扫描干涉场曝光 曝光模型 显影模型 快速推进法 驻波效应
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 衍射与光栅
• 页码范围: 28-34
• 页数: 7页
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201838.0505001

摘要

根据扫描干涉场曝光的特点,针对光刻胶层内曝光量的驻波效应,建立了动态曝光模型.基于快速推进法建立了显影模型,得到了光栅掩模槽形的演变规律.为减弱驻波效应的影响,提出了一种抗反射层最优厚度的设计方法.仿真结果表明,建立的曝光和显影模型能有效预测光栅掩模的槽形轮廓,同时可优化抗反射膜的厚度.