头/盘界面对润滑剂转移行为及分布的影响

• 作者: 潘登 郝秀红
• 来源期刊: 哈尔滨工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 润滑剂转移 分子动力学 粗糙度 类金刚石薄膜(DLC)表层官能团比例 硬盘
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 页码范围: 141-145
• 页数: 5页
• 分类号: TH117
• 字数: 3329字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11918/j.issn.0367-6234.201702046

摘要

为进一步提高磁头飞行的稳定性,增加硬盘存储容量,采用分子动力学方法研究磁头磁盘接触条件下盘片上类金刚石薄膜(DLC)层粗糙度、DLC表层官能团比例及单个润滑剂分子中羟基数对润滑剂转移行为及润滑剂在盘片表面分布的影响.研究结果表明:降低DLC层粗糙度,增加DLC表层官能团比例都将降低磁头磁盘间的润滑剂转移量;当磁盘表面存在物理吸附态的润滑剂分子时,增加单个润滑剂分子中的羟基数也可降低润滑剂转移量;但降低DLC层粗糙度或同时增加DLC表层官能团的比例和单个润滑剂中羟基数会增加润滑剂在盘片表面堆积的高度,进而降低磁头飞行稳定性.综合考虑润滑剂转移量和润滑剂在磁盘表面堆积厚度对磁头飞行稳定性的影响,DLC层粗糙度应降低至约0.07 nm,DLC表层官能团比例增至约80％,单个润滑剂分子中的羟基数量应少于8个.