基于隧穿场效应管(T F E T)P-I-N结构,考虑在源区与沟道之间施加一段与源区掺杂性质相反的高掺杂区(PNIN-TFET),加大源区到沟道的转变,提高TFET的开态电流.通过NanoTCAD ViDES软件计算石墨烯PNIN-TFET的开态电流、亚阈值摆幅等物理参数,试验发现,采用PNIN结构并且利用有掺杂浓度梯度变化的漏区能提高T FET性能,经过优化,器件开态电流从4.15×10-7A提高到2.32×10-6 A,泄漏电流从4.1×10-11 A降低到2.3×10-17 A,亚阈值摆幅从49.23 m V/dec降低到26.15 m V/dec.