多晶硅表面皮秒激光阵列孔绒面制备

• 作者: 冯爱新 刘勇 贾天代 陈欢
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 激光制绒 阵列孔 时域有限差分(FDTD) 多晶硅 反射率
• 年，卷（期）: 2018,（10）
• 所属期刊栏目: 激光制造
• 页码范围: 69-76
• 页数: 8页
• 分类号: TN249
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201845.1002002

摘要

为了减小多晶硅表面的反射率,采用皮秒激光在多晶硅片表面制备阵列孔绒面,分析了激光参数对制绒深度的作用机理,优选出实验参数:激光功率为15W,脉冲频率为25 kHz,扫描速度为0.9 m/s,扫描次数为2.利用优选参数验证了制绒孔距对多晶硅片表面反射率的影响,并通过PC1D软件模拟出不同制绒硅片的开路电压和短路电流.结果表明,当孔距为30 μm时,多晶硅表面形成的孔最为紧密,形貌最好,其孔密度为1.17×105 counts·cm-2,表面反射率为6.95％,多晶硅电池光-电转化效率提升至18.45％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯爱新		17	56	5.0	7.0
2	贾天代		2	0	0.0	0.0
3	陈欢		1	0	0.0	0.0
4	刘勇		1	0	0.0	0.0