发射区及基区工艺对晶体管大电流特性的影响

• 作者: 余庆
• 来源期刊: 电子质量
• 关键词: 晶体管 大电流特性 电流放大系数
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 实验室特写
• 页码范围: 50-53
• 页数: 4页
• 分类号: TN322
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-0107.2018.05.015

摘要

根据大电流特性影响的理论知识,结合该公司的实际情况,对发射区、基区工艺进行试验分析,结果表明基区浓度、发射区浓度对晶体管的大电流特性影响比较大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余庆		4	5	2.0	2.0