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摘要:
搭建了纳秒激光加热、连续激光探测的光热反射实验系统,通过测量芯片中多层微米厚度薄膜不同位置的反射信号,评估了不同薄膜结构对器件散热的影响.在多层薄膜热传导模型的基础上,结合La-place逆变换的Stehfest数值解拟合得到了微米级厚度薄膜的热物性参数以及界面传热特性.拟合得到绝缘层热导率为0.75 W/(m·K),与磁控溅射A1薄膜间的界面热阻约为10-8 m2 K/W.进而建立了电子器件封装镀膜的热分析有限元模型,比较了沉积类金刚石薄膜前后芯片热点温度的变化,结果表明:类金刚石薄膜可以进一步改善芯片的散热性能.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 利用光热反射法研究多层薄膜结构的散热性能
来源期刊 测试技术学报 学科 工学
关键词 类金刚石薄膜 界面热阻 多层薄膜 光热反射法 热物性
年,卷(期) 2019,(2) 所属期刊栏目 测试技术与理论研究
研究方向 页码范围 153-159
页数 7页 分类号 TN247
字数 5292字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-7449.2019.02.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈云飞 东南大学机械工程学院 64 250 9.0 12.0
2 吴文智 黑龙江大学电子工程学院 13 19 3.0 3.0
3 王建立 东南大学机械工程学院 7 3 1.0 1.0
4 毛成锟 东南大学机械工程学院 2 0 0.0 0.0
5 熊大曦 东南大学机械工程学院 8 16 2.0 4.0
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类金刚石薄膜
界面热阻
多层薄膜
光热反射法
热物性
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测试技术学报
双月刊
1671-7449
14-1301/TP
大16开
太原13号信箱
22-14
1986
chi
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2837
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