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摘要:
硅基紫外成像探测技术具有可靠性好、集成度高、容易大面阵化、成本低等优势,成为探测领域的重要研究方向.随着硅半导体工艺的持续进步以及纳米科学的发展,利用半导体技术、荧光转换材料或者低维纳米结构来增强硅基探测器的紫外响应取得了长足的进步.本文综述了国内外硅基紫外增强成像探测器件、系统应用的进展,通过回顾器件发展的历史和对研究现状的分析,并结合紫外探测技术在天文物理、生化分析、电晕检测等领域的应用进展,探讨了硅基紫外成像探测技术发展的趋势和挑战.
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文献信息
篇名 紫外增强硅基成像探测器进展
来源期刊 中国光学 学科 工学
关键词 紫外 图像传感器 成像探测
年,卷(期) 2019,(1) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 19-37
页数 19页 分类号 TN23
字数 11493字 语种 中文
DOI 10.3788/CO.20191201.0019
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王岭雪 北京理工大学光电学院纳米光子学与超精密光电系统北京市重点实验室 51 847 19.0 27.0
2 张猛蛟 北京理工大学光电学院纳米光子学与超精密光电系统北京市重点实验室 3 9 2.0 3.0
6 钟海政 北京理工大学材料学院 12 102 3.0 10.0
7 蔡毅 北京理工大学光电学院纳米光子学与超精密光电系统北京市重点实验室 9 23 3.0 4.0
11 江峰 北京理工大学材料学院 1 3 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
紫外
图像传感器
成像探测
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国光学
双月刊
2095-1531
22-1400/O4
大16开
吉林省长春市东南湖大路3888号
12-140
1985
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
8
总被引数(次)
11606
论文1v1指导