Mo/Cu TES超导性能表征

• 作者: 帅茂兵 张宏俊 文继 熊忠华 王新明 莫钊洪
• 来源期刊: 核电子学与探测技术
• 学科: 工学
• 关键词: 超高分辨率 γ射线探测 超导薄膜 转变边界探测器
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 页码范围: 33-38
• 页数: 6页
• 分类号: TL817+.1|O484.5
• 字数: 3155字
• 语种: 中文

摘要

为了制备满足超高分辨率射线探测要求的超导转变边界探测器,对制备的Mo薄膜和Mo/Cu薄膜表征了其超导电学特性.结果 表明,制备的Mo薄膜具有较好的超导性能,Mo/Cu薄膜的△T达到了2.1 mK@352 mK,α值达到了335.在1 mA的电流下,该α值可以满足超高分辨射线探测的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	帅茂兵	中国工程物理研究院材料研究所	24	71	5.0	7.0
2	张宏俊	中国工程物理研究院材料研究所	11	44	2.0	6.0
3	熊忠华	中国工程物理研究院材料研究所	20	88	4.0	9.0
4	莫钊洪	中国工程物理研究院材料研究所	6	9	2.0	3.0
5	文继	中国工程物理研究院材料研究所	1	0	0.0	0.0