电子束直写曝光机的原理与常见问题分析

• 作者: 曹健 王秀海 赵英伟 郝晓亮
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束直写曝光 邻近效应 光刻工艺
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 先进光刻技术与设备
• 页码范围: 48-52
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4654字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2020.02.011

摘要

介绍了电子束曝光的分类和特点,阐述了电子束直写曝光的核心部分-电子光柱体的结构、原理以及工作方式;并且介绍了电子束的产生、偏转、曝光过程以及电子束的束斑类型以及扫描方式;分析了影响电子束曝光分辨率的关键参数以及邻近效应对工艺的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王秀海	中国电子科技集团公司第十三研究所	5	30	2.0	5.0
2	曹健	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	13	2.0	3.0
3	郝晓亮	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	71	2.0	6.0
4	赵英伟	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	46	1.0	6.0