荧光成像技术无损探测光学元件亚表面缺陷

• 作者: 刘红婕 叶鑫 吴卫东 周晓燕 杨李茗 王凤蕊 耿峰 蒋晓东 黄进
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 荧光成像技术 亚表面缺陷 激光损伤 熔石英 KDP晶体
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 50-59
• 页数: 10页
• 分类号: O433.2|TN247
• 字数: 3863字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20202801.0050

摘要

为了建立有效无损的亚表面缺陷探测技术,本文开展了光学元件亚表面缺陷的荧光成像技术研究,通过系统优化激发波长、成像光谱、成像光路及探测器等影响探测精度和探测灵敏度的参数,研制出小口径荧光缺陷检测样机.基于该样机对一系列精抛光熔石英和飞切KDP晶体元件的散射缺陷和荧光缺陷进行了表征,获得了各类样品亚表面缺陷所占的比重差异很大,从0.012％ 到1.1％ 不等.利用统计学方法分析了亚表面缺陷与损伤阈值的关系,结果显示,熔石英亚表面缺陷与损伤阈值相关曲线的R2值为0.907,KDP晶体亚表面缺陷与损伤阈值相关曲线的R2值为0.947,均属于强相关.该研究结果可评价光学元件的加工质量,用于指导紫外光学元件加工工艺,并且由于该探测技术具有无损、快速的特点,因此可应用于大口径紫外光学元件全口径亚表面缺陷探测,具有极其重要的工程意义.