基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
介绍了在2.5D封装中运用简化工艺进行硅转接板双面电镀的电镀槽功能模块及其设计原理.
推荐文章
2.5D微系统多物理场耦合仿真及优化
2.5D微系统
电-热-力多物理场耦合
优化
一种基于硅转接板的高安全芯片集成技术研究
侵入式物理攻击
硅转接板
侧信道攻击
芯片安全防护
三维封装微系统TSV转接板技术研究
硅通孔
串扰耦合
电磁仿真
传输特性
着色双面2.5D图形算法研究
卡通动画
2.5D图形
扩散曲线
着色技术
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 2.5D封装中硅转接板双面电镀槽研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 2.5D封装 简化工艺 硅转接板 双面电镀 电镀槽
年,卷(期) 2020,(2) 所属期刊栏目 先进封装技术与设备
研究方向 页码范围 34-38
页数 5页 分类号 TN405
字数 1948字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2020.02.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 曹秀芳 中国电子科技集团公司第四十五研究所 5 13 2.0 3.0
2 吴光庆 中国电子科技集团公司第四十五研究所 3 0 0.0 0.0
3 陈苏伟 中国电子科技集团公司第四十五研究所 3 1 1.0 1.0
4 解坤宪 中国电子科技集团公司第四十五研究所 3 0 0.0 0.0
5 张伟峰 中国电子科技集团公司第四十五研究所 1 0 0.0 0.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (15)
共引文献  (8)
参考文献  (7)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2005(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2006(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2007(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2008(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2009(3)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(2)
2010(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2011(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2012(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2014(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2017(3)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(2)
2018(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2019(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2020(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
2.5D封装
简化工艺
硅转接板
双面电镀
电镀槽
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
总被引数(次)
10002
论文1v1指导