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刻蚀方法对Ti3C2二维材料层状结构的影响
刻蚀方法对Ti3C2二维材料层状结构的影响
作者:
丁松
刘敏
王占勇
邱凡
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
二维材料
MXene(Ti3C2)
层状结构
直接刻蚀法
原位刻蚀法
摘要:
为了进一步提高Ti3 C2纳米片的层间距,分别采用HF直接刻蚀法和原位HF刻蚀法,研究了刻蚀方法对MXene(Ti3 C2)层状结构的影响.结果表明,采用HF直接刻蚀法时,获得样品的形貌为风琴状多层堆叠的纳米片,当加入20 mL质量分数为30%的HF溶液,于35℃刻蚀24 h,得到层间距达1.046 nm且层状结构完整的多层Ti3 C2纳米片.采用更温和的原位HF刻蚀法时,制备出更少片层的Ti3 C2纳米片,层间距达到1.54 nm,层间距的增加有利于提高Ti3 C2的比表面积利用率,使其在吸波材料、 柔性电子元器件和传感器等领域具有潜在的应用前景.
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内容分析
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引文网络
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内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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(/年)
文献信息
篇名
刻蚀方法对Ti3C2二维材料层状结构的影响
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
二维材料
MXene(Ti3C2)
层状结构
直接刻蚀法
原位刻蚀法
年,卷(期)
2020,(7)
所属期刊栏目
新能源材料与器件专辑
研究方向
页码范围
72-77
页数
6页
分类号
TB34
字数
4089字
语种
中文
DOI
10.14106/j.cnki.1001-2028.2020.0326
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王占勇
上海应用技术大学材料科学与工程学院
51
114
6.0
8.0
2
邱凡
上海应用技术大学材料科学与工程学院
2
0
0.0
0.0
3
刘敏
上海应用技术大学材料科学与工程学院
9
16
2.0
4.0
4
丁松
上海应用技术大学材料科学与工程学院
1
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参考文献(0)
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
二维材料
MXene(Ti3C2)
层状结构
直接刻蚀法
原位刻蚀法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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