使用PLC系统控制光刻胶泵精度方法探索

• 作者: 施强 苗涛
• 来源期刊: 中国设备工程
• 学科: 工学
• 关键词: 涂胶机台 PLC 光刻胶 泵 精确控制
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 工程技术与创新
• 页码范围: 201-203
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2724字
• 语种: 中文

摘要

光刻胶泵是涂胶机上的重要组成部分,胶泵将光刻胶精确喷涂在晶片上,所以胶泵控制器的稳定性与准确性也显得尤为重要,利用富士PLC自带的定位功能块与相关硬件对胶泵进行控制,不仅提高了定位精度,也提高了胶泵控制的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苗涛		6	34	2.0	5.0
2	施强		2	1	1.0	1.0