集成电路制造用光刻胶发展现状及挑战

• 作者: 李冰
• 来源期刊: 精细与专用化学品
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻胶 极紫外光刻 丙烯酸树脂 金刚烷
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 焦点论坛
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TQ577
• 语种: 中文
• DOI: 10.19482/j.cn11-3237.2021.02.01

摘要

简要介绍了光刻技术的发展和得到更小线宽的途径.详细介绍了不同光刻技术下光刻胶的发展.基于中国光刻胶的发展现状,提出了加快光刻胶开发与应用的建议.