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CoFeCrGa1-xAlx合金的电子结构、磁性和自旋零带隙半导体特性研究
CoFeCrGa1-xAlx合金的电子结构、磁性和自旋零带隙半导体特性研究
作者:
方旭
卢志红
李斯阳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Heusler合金
自旋零带隙半导体
Al掺杂
电子结构
磁性
四方形变
摘要:
采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理,研究了Al掺杂对CoFeCrGa1-x Alx(x=0、0.25、0.5、0.75)合金电子结构、磁性、自旋零带隙半导体特性的影响.结果表明,随着Al掺杂浓度的增加,合金晶格常数减小,总磁矩符合Slater-Pauling规则.在整个研究范围内,CoFeCrGa1-x Alx(x=0、0.25、0.5、0.75)合金均为自旋零带隙半导体,随着x的增加,自旋向下能带中费米面从价带顶向导带方向移动,带隙宽度逐渐增加,当x=0.75时,费米面位于带隙中间,CoFeCrAl0.75 Ga0.25在系列合金中半金属稳定性最佳.此外,当受到一定程度四方形变时,CoFeCrAl0.75 Ga0.25仍能保持自旋零带隙半导体特性,有望应用于自旋电子器件.
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文献信息
篇名
CoFeCrGa1-xAlx合金的电子结构、磁性和自旋零带隙半导体特性研究
来源期刊
武汉科技大学学报(自然科学版)
学科
关键词
Heusler合金
自旋零带隙半导体
Al掺杂
电子结构
磁性
四方形变
年,卷(期)
2021,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
161-167
页数
7页
分类号
O469|O482
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1674-3644.2021.03.001
五维指标
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Heusler合金
自旋零带隙半导体
Al掺杂
电子结构
磁性
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研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
武汉科技大学学报(自然科学版)
主办单位:
武汉科技大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1674-3644
CN:
42-1608/N
开本:
出版地:
湖北武汉青山区
邮发代号:
创刊时间:
语种:
chi
出版文献量(篇)
2627
总下载数(次)
1
总被引数(次)
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