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真空共晶焊接金属电极片变色问题改善工艺研究
真空共晶焊接金属电极片变色问题改善工艺研究
作者:
吴文辉
吴明钊
蔡约轩
王凯星
陈膺玺
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
多芯片组装
共晶焊接
真空度
摘要:
多芯片组装共晶焊接技术是在芯片的端部和金属电极片之间添加焊料,在合适的温度、时间、真空度以及气氛下实现两表面的共晶物熔合,具有低空洞率、焊接强度高等优点.封闭的炉腔内焊料中的挥发物和氧气会造成金属电极片变色,且无法利用清洗剂去除.通过对炉腔内气氛、真空度等工艺进行试验研究,分析不同的真空度与金属电极片变色之间的关系.试验结果表明,在焊接预热阶段和焊料共晶阶段,加大真空抽气作用,将有害气体排出炉腔,可有效解决金属电极片变色现象.
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文献信息
篇名
真空共晶焊接金属电极片变色问题改善工艺研究
来源期刊
电子与封装
学科
关键词
多芯片组装
共晶焊接
真空度
年,卷(期)
2021,(3)
所属期刊栏目
封装、组装与测试|Packaging & Assembly & Testing
研究方向
页码范围
18-23
页数
6页
分类号
TN305.94
字数
语种
中文
DOI
10.16257/j.cnki.1681-1070.2021.0307
五维指标
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研究主题发展历程
节点文献
多芯片组装
共晶焊接
真空度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
主办单位:
中国电子科技集团公司第五十八研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1681-1070
CN:
32-1709/TN
开本:
大16开
出版地:
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
邮发代号:
创刊时间:
2002
语种:
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
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