基于扫描聚焦XPS技术的InGaAs表面清洁研究

• 作者: 荣敏敏 张益军 李诗曼 焦岗成 刘伟鑫 王自衡 舒昭鑫 钱芸生
• 来源期刊: 光学学报
• 关键词: 材料 InGaAs材料 扫描聚焦X射线 表面污染 化学清洗
• 年，卷（期）: 2021,（5）
• 所属期刊栏目: 材料|Materials
• 页码范围: 125-133
• 页数: 9页
• 分类号: TN223
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS202141.0516004

摘要

为了获得清洁度更高的InGaAs材料表面,利用氢氟酸溶液、盐酸与水的混合溶液、盐酸与异丙醇的混合溶液,研究了化学清洗方法对材料表面碳污染物和氧化物的去除效果,并在此基础上提出了一种与紫外臭氧清洗相结合的方法.利用扫描聚焦X射线光电子能谱技术,对不同方法清洗后的InGaAs样品表面进行分析,基于样品表面产生的二次电子图像,对表面进行了微区特征分析,精准检测了表面化学成分和表面被腐蚀程度.分析发现,基于氢氟酸溶液的刻蚀会严重腐蚀样品表面,破坏表面结构和成分,而结合了紫外臭氧清洗的基于盐酸和异丙醇混合溶液的刻蚀对样品表面具有更好的清洁效果,能够更好地去除表面的碳污染物和氧化物.