微纳电子技术期刊
出版文献量(篇)
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微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量(篇)
3266
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16974
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  • 作者: 吕奇峰 杨富华 洪文婷 王昊 韩伟华
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  345-354
    摘要: 硅基Ⅲ-Ⅴ族纳米线晶体管已经成为高速、低功耗纳米级器件的重要发展方向.首先,从气相-液相-固相生长和选择区域生长的角度,阐明了在硅衬底上无位错生长高晶体质量Ⅲ-Ⅴ族纳米线的机制.在此基础上,...
  • 作者: 尹顺政 李献杰 蔡道民 赵永林 高向芝 齐利芳
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  355-358
    摘要: 由于半导体环形激光器器件尺寸不再受解理面的限制,结构简单紧凑,容易集成,近年来成为集成光源领域的研究热点之一.采用MOCVD系统外延生长InAlGaAs多量子阱激光器材料,利用BCl3,Cl...
  • 作者: 修向前 刘斌 孔月婵 李毅 甘天胜 谢自力 陈敦军 陈辰 陈鹏
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  359-365
    摘要: 利用有效质量理论自洽求解Poisson和Schr(o)dinger方程理论研究了背势垒插入层对InAlN/GaN晶格匹配异质结构的电学性能的影响.研究表明,对于In0.17Al0.83 N/...
  • 作者: 常清 徐现刚 徐胜 韩维华 麻劼 龙云泽
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  366-373
    摘要: 静电纺丝技术可制备形貌可控并且连续的纳米纤维,在三维纳米结构制备领域得到了广泛应用.综述了国内外三维静电纺丝技术的研究现状,介绍了三维静电纺丝技术的基本原理.概述了目前制备三维纳米结构常用的...
  • 作者: 司朝伟 宁瑾 杨健 赵永梅 韩国威
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  374-380,393
    摘要: 综述了氮化铝面内伸缩模态的射频MEMS谐振器.氮化铝面内伸缩模态谐振器(contour-mode resonator,CMR)利用了氮化铝薄膜的压电效应,由器件的机械谐振再通过机电转化实现谐...
  • 作者: 何宽 刘慎业 易涛 朱效立 牛洁斌 陈宝钦
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  381-385
    摘要: 研究了采用高分辨率的100 kV电子束光刻和光学光刻系统相结合制作高线密度X射线双光栅的工艺技术,并且分析了电子束邻近效应校正技术在高线密度光栅制备中的应用.首先,利用电子束曝光和纳米电镀技...
  • 作者: 唐彬 姚明秋 王芳 苏伟
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  386-393
    摘要: 在微机电系统(MEMS)领域硅各向异性湿法腐蚀是制作许多元器件的一项重要技术,加入非离子型表面活性剂的腐蚀液可以在硅基片上制作出各种形状,但是对于真正的腐蚀机理还有待进一步研究.介绍了硅湿法...
  • 作者: 刘桂林 刘玉岭 李若津 栾晓东 王辰伟
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  394-398
    摘要: 为实现图形片的全局平坦化,通过研究碱性阻挡层抛光液各成分对铜和介质(TEOS)去除速率的影响,遴选出一种碱性阻挡层抛光液.在此抛光液基础上添加不同质量分数的盐酸胍,对钽光片进行抛光,选出满足...
  • 作者: 刘伟娟 刘玉岭 王辰伟 蒋勐婷 袁浩博 陈国栋
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  399-403
    摘要: 采用自主研发的碱性铜抛光液,在E460E机台上研究了不同磨料质量分数对铜和钽抛光速率与膜厚一致性的影响;分析了磨料质量分数为2%,2.8%和3.6%时,膜厚一致性对平坦化的影响.抛光结果显示...
  • 作者: 刘伟娟 刘玉岭 蒋勐婷 袁浩博 陈国栋
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  404-408
    摘要: 研究了一种碱性铜抛光液,其基本组分是硅溶胶磨料、新型FA/O V型螯合剂、非离子表面活性剂和氧化剂(H2O2).在压力为2 psi(1 psi=6.895 kPa)、抛头转速与抛盘转速分别为...
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2014年6期
    页码:  411-412
    摘要:

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

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2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

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