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微纳电子技术2021年第5期出版文献
出版文献量（篇）
3266
总下载数（次）
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总被引数（次）
16974
微纳电子技术
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《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。
创刊4年以来，汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体，通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向，为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成...
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主办单位：
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉：
俄罗斯《AJ》收录
美国《剑桥科学文摘》收录
英国《SA》,INSPEC数据库收录
ISSN：
1671-4776
CN：
13-1314/TN
出版周期：
月刊
邮编：
050002
地址：
出版文献量（篇）
3266
总下载数（次）
22
总被引数（次）
16974
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 对叉指背接触(IBC)太阳电池在光伏领域的结构优势和发展进程进行了简单的阐述.重点介绍了 IBC太阳电池前表面场、背面p+和n+区结构、金属化电极的制备方法,并从工业化角度评述了各制备方法的...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 硅作为锂离子电池负极的理论比容量是商用碳材料的10倍以上,但是其在循环过程中的巨大体积变化会导致电池负极粉化,形成不稳定的固体电解质界面(SEI)膜,从而阻碍硅负极材料的实际应用.以价格低廉...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 磷酸铁锂(LiFePO4,LFP)是一种良好的阴极材料,然而导电率低和锂离子扩散系数小的缺点限制了其在高倍率下的电化学性能.寻找规模化工艺制备高倍率的锂离子电池阴极材料,对于高倍率锂离子电池...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 采用金属辅助化学腐蚀(MACE)法,通过控制不同的腐蚀时间制备出多孔硅.利用扫描电子显微镜(SEM)观察多孔硅形貌,分析结果表明,随着腐蚀时间的增加,硅表面腐蚀孔洞变大,孔洞深度增加,同时孔...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 为了解决柔性压力传感器在大的工作范围内工作时难以兼顾灵敏度的问题,设计了一种基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)锥形微结构且夹层为石墨烯泡沫的柔性压力传感器.介绍了该传感器的制备方法,对比了有无锥...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 水听器是水下探测的主要仪器,通过对其结构的研究和改进可显著提升其性能.针对现阶段矢量水听器所采用的纤毛二次集成方式所造成的一致性误差较大的问题,以硅纳米膜作为压敏单元,设计了一种新型基于微电...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 在密闭腔室,设计加热器和测温元件结构并充入气体后加热,腔室内可以形成稳定的热对流场.由于气体存在惯性,当外界有加速度作用时,指定位置放置的pn结可以检测到温度变化.通过仿真分析优化了腔室的合...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 设计并制备了一种X波段微电子机械系统(MEMS)环行隔离滤波芯片,该芯片以高阻硅作为衬底材料,由2个MEMS环行器、1个薄膜匹配电阻以及1个MEMS滤波器四部分优化集成在一起,实现多功能芯片...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 微电极阵列可在彼此独立的电极点上通过改性材料修饰完成多功能集成,是脑机接口的核心部件.使用微电子机械系统(MEMS)工艺结合溅射、剥离工艺将氧化铱薄膜作为pH响应功能层集成在微电极阵列对应的...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 采用真空辅助过滤法在尼龙膜上制备了基于化学模板法的Ag2Se纳米棒柔性热电薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和Seebeck系数测试仪等对添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP)...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 基于激光刻蚀加工技术设计并制备了新型蛇形沟道布局微型色谱柱芯片,采用硅材料衬底刻蚀加工,设计并制备了不同沟道布局的微型色谱柱,并对混合组分进行分离分析.选取成本较低、加工周期较短的紫外激光刻...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 采用倾斜溅射工艺制备了一种Cr/Ti/Ni三层金属吸气剂薄膜,其中Ti薄膜作为主吸气层,Cr薄膜为沉积在Ti下方的阻挡层,Ni薄膜为覆盖在Ti上方的保护层.在350℃高温激活后,吸气剂初始吸...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 采用化学气相沉积法在6英寸(1英寸= 2.54 cm)4°偏角4H-SiC衬底上进行快速同质外延生长,通过研究Si/H2比(所用气源摩尔比)与生长速率的相互关系,使4H-SiC同质外延层生长...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2021年5期页码:摘要： 研究了化学机械抛光(CMP)后AlN单晶片的清洗.将除蜡剂清洗法、RCA清洗法、食人鱼溶液清洗法以及丙酮和异丙醇(IPA)的混合溶液清洗法等进行组合,对抛光后的AlN单晶片表面进行超声清洗,...
微纳电子技术基本信息
| 刊名 | 微纳电子技术 | 主编 | 李和委 |
| 曾用名 | 半导体情报(1964-2001) | ||
| 主办单位 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 主管单位 | 中华人民共工业和信息化部 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1671-4776 | CN | 13-1314/TN |
| 邮编 | 050002 | 电子邮箱 | wndz@vip.sina.com |
| 电话 | 0311-87091487 | 网址 | www.wndz.org |
| 地址 | 石家庄市179信箱46分箱 |
微纳电子技术评价信息
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| 1. | 文摘杂志(俄) |
| 2. | 科学文摘(英) |
| 3. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
期刊荣誉
| 1. | 俄罗斯《AJ》收录 |
| 2. | 美国《剑桥科学文摘》收录 |
| 3. | 英国《SA》,INSPEC数据库收录 |
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