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微细加工技术2001年出版文献
出版文献量（篇）
672
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微细加工技术
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Microfabrication Technology
《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位：
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉：
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN：
1003-8213
CN：
43-1140/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
地址：
出版文献量（篇）
672
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 介绍一种全息光刻技术的基本原理，全息掩模复位精度的影响，全息光刻技术的优点及基本应用，并对全息光刻系统的设计考虑作了详细介绍，并给出部分实验结果。
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 根据所需光刻图形的分布，反推掩模结构的思路，提出了一种基于交替投影算法的掩模设计方法。该方法设计出的掩模为振幅和相位连续。并给出了一个设计实例和量化方法。实验结果表明该方法对复杂相移掩模的设...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理，对其关键部分(精密调整台、微位移控制、对准光学系统等)做了详细阐述，并进行了系统的精度分析。
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 分析了基于标量衍射理论的位相型衍射微透镜的光学行为，结合等效媒质理论提出了二元衍射微透镜的一种新的亚波长结构近似设计方法。根据标量理论位相量化的概念，分析连续浮雕透镜的相移函数，结合等效媒质...
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5. 强流金属离子注入刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 金属等离子体浸没注入(MEPIII)技术与金属蒸气真空弧(MEVVA)源注入技术有相同之处，也有各自不同的特点。采用两种方法进行钛离子注入硅，RBS方法分析注入层，并对两种注入技术予以比较。
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 由于衍射光学元件独特的色散特性及体积小、重量轻可进行复制等优点，它在国防、生产及科研等领域的作用越来越重要，应用于光学成像系统，不仅能改善系统成像质量，而且能实现系统的轻量化、小型化，增加系...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 综述了制备ULSI低介电常数材料的各种CVD技术。详细介绍PCVD技术淀积含氟氧化硅薄膜、含氟无定型碳膜与聚酰亚胺类薄膜的工艺，简要介绍了APCVD技术淀积聚对二甲苯类有机薄膜及RTCVD技...
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8. 低电子亲和势内场发射阴极刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 平面阴极的场致发射显示器件由于性能优越、结构简单而具有很好的应用前景。这种器件要实用化，急需提高阴极的电子发射率。提出一种改进栅极结构的方法达到提高电子发射率的目的；介绍了双金属栅极的结构和...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 用射频等离子体化学沉积方法制备氢化非晶碳(a-C：H)膜。在等离子体气氛中引入胺基团，则能够在a-C：H薄膜沉积过程中将胺基团掺入薄膜的网络结构中。喇曼光谱表明薄膜具有无序态结构。红外分析表...
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10. 磁过滤阴极真空弧沉积薄膜研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 采用磁过滤阴极真空孤沉积技术对从孤源引出离子束中的大颗粒进行过滤后，在硅和聚合物表面进行离子注入和低能离子束沉积，可获得特性优异的沉积金属膜、超硬膜(类金刚石，CN膜)、陶瓷膜(TiN，Ti...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 电磁型微马达以其输出力矩大、运行寿命长、易于实用化的优点成为微机电系统、微型机器人和微型可动部件理想的驱动器。从微马达结构、气隙磁场、转子厚度、转子写入磁极数和定子绕组的层数对微马达输出力矩...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 介绍了一种新型的基于隧道效应的微型磁强计，对其关键工艺进行了分析和实验研究。利用薄片溶解工艺制作了大尺寸的薄膜(3mm×1mm)，并且在薄膜的两面都制作了图形结构，拓展了微机械工艺的加工能力
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 纳米多层膜的物理性能和力学性能的异常效应均与其调制结构有关。采用X射线能量分散谱仪(EDS)成分分析方法对不同调制周期和调制比的W/Mo纳米多层膜进行表征，并与透射电子显微分析(TEM)和x...
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14. 毛细管电泳芯片的制造刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 研究了在平整的玻璃上制作微管道的方法和玻璃-玻璃键合技术：讨论了腐蚀条件对玻璃的腐蚀速率和微管道表面形貌的影响。玻璃键合采用热键合，键合温度为620℃，得到的键合面剪切强度为玻璃本身剪切强度...
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15. 压阻式金刚石微压力传感器刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 工业上的某些场合要求压力传感器能够在高温、高辐射以及恶劣的环境下正常工作。金刚石的某些特殊性质(如化学上的惰性、高的杨氏模量)以及极大的压阻效应使其成为制作压阻型压力传感器的极佳材料。对利用...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年1期页码:摘要： 综述了半导体量子点和量子线材料的最新发展动态及其制备技术。
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 对二元光学元件激光直写设备实时调焦伺服系统的要求与实现方法进行了较为全面的介绍,并分析了影响调焦伺服系统性能的主要因素.提出了采用BP神经网络对离焦信号进行线性化处理,同时采用压电陶瓷作为执...
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18. 用光致抗蚀剂膜层制作衰减相移掩模刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法,介绍这种方法的原理和制作工艺,并给出这种方法制作的衰减相移掩模用于准分子激光光刻实验,得到显著提高光刻分辨力的实验结果.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 根据菲涅尔-基尔霍夫衍射公式,推导出斜照明接近式光刻系统中硅片表面的光强分布,并在几种条件下进行了模拟数值计算,分析了斜照技术的实用条件及改善光刻分辨率的效果和应用前景.
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20. 亚分辨图形相移掩模的制作方法刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 介绍亚分辨图形掩模的原理、应用及具有亚分辨图形的相移掩模和传统掩模的制作方法和工艺.
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21. 提高光刻图形质量的双曝光技术刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 双曝光技术能提高图形对比度和分辨率,可改善焦深,从而提高光刻图形质量.介绍了双曝光技术原理和几种双曝光方法,同时,提出采用双曝光技术,结合相移掩模和光学邻近效应校正来提高光刻分辨率,给出了双...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜研究设计,对波长、数值孔径和分辨力的选择,光学结构型式的确定,以及材料和试制加工工艺的考虑,然后给出一个数值孔径NA=O.62,光学结构为双远心的投影光...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 利用金属离子与碳离子双注入可在金属表面形成陶瓷化的复合层,取得了抗腐蚀和抗磨损优良特性.研究了注入剂量和束流密度对这种复合层结构的影响,X射线分析结果表明,双注入可形成金属合金相和碳化物的钝...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 论述了电子束扫描正交图形簇产生畸变的非线性校正过程.通过几种典型的图形分析研究,推导出有关的校正函数,并运用计算机进行了该畸变图形的仿真处理及验证.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术.通过采用金属铝靶和自制的脉冲电源进行了氧化铝薄膜的脉冲磁控反应溅射沉积实验,讨论了脉冲溅射参数对异常放电的抑制效果,以及对氧化铝薄...
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26. CVD金刚石薄膜的抗腐蚀性研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 用微波等离子体化学气相沉积法在硅衬底上生长了金刚石薄膜;通过扫描电子显微镜和喇曼散射光谱对其性质进行了表征.将生成的样品分别放在氢氧化钾,四乙基氢氧化铵以及氢氟酸、硝酸和冰醋酸混合液中进行腐...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 应用有限元方法对TiNi/Si复合膜微驱动器的结构设计进行了分析.因TiNi和Si之间的热膨胀系数差别很大,溅射在Si(100)衬底上的TiNi膜,当从晶化的高温降下来时会积聚很大的热应力....
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28. 晶化前后有源层的刻蚀对刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 在普通玻璃衬底上低温(600℃以下)制备poly-Si TFT有源矩阵液晶显示器是当前的研究热点.采用金属诱导横向晶化法低温研制了poly-Si TFT.分析了晶化前后有源层的刻蚀对poly...
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29. EDS分析中微区法向的确定方法刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 利用扫描电镜上安装的X线能谱仪,研究样品的微区法向不能准确确定时对定量分析结果准确性产生的影响程度,提出了一种确定样品微区法向的方法.实验表明该法有利于定量分析准确度的提高.
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30. SU-8 5光刻胶的应用工艺研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： SU-8系列负性光刻胶是一种新品光刻胶,它具有良好的光敏性和高深宽比,适合于微机电系统,UV-LIGA和其它厚膜、超厚膜应用[1,2].介绍了利用SU-8 5光刻胶,采用UV曝光制备LIGA...
微细加工技术基本信息
| 刊名 | 微细加工技术 | 主编 | |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 中国电子科技集团公司第48研究所 | 主管单位 | |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1003-8213 | CN | 43-1140/TN |
| 邮编 | 电子邮箱 | ||
| 电话 | 网址 | ||
| 地址 | 湖南省长沙市 |
微细加工技术统计分析
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