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微细加工技术期刊
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微细加工技术2005年第3期出版文献
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
微细加工技术
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Microfabrication Technology
CSTPCD
《微细加工技术》创刊于1983年,是国家科委和国家新闻出版署批准,国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物,已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录,是《中国期刊网》、《中国学术期刊(光盘版)》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊,是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位:
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉:
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN:
1003-8213
CN:
43-1140/TN
出版周期:
双月刊
邮编:
地址:
湖南省长沙市
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
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目录
1.
TiNi合金薄膜的脉冲激光沉积制备与应用
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
1-8
摘要:
概述了三种TiNi合金薄膜的制备方法,其中重点阐述了脉冲激光沉积法,并详细介绍了TiNi合金薄膜作为微驱动元件在微流体控制系统和微操作系统中的应用.随着薄膜制备工艺和性能研究的发展,TiNi...
2.
扫描电镜用图像采集系统的设计
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
9-13
摘要:
介绍了一种用FPGA(现场可编程门阵列)技术设计的新型图像采集系统,该系统可用于改进图像采集功能欠缺的老型号扫描电镜.设计方案采用可编程芯片FP-GA对系统进行逻辑控制,编写不同的程序即可广...
3.
《粘接》2006年征订启事
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
13
摘要:
4.
电子束曝光中电子散射模型的优化
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
14-19
摘要:
提出了在0.1 keV~30 keV能量范围内进行电子束曝光Monte Carlo模拟的分段散射模型优化方案.在该方案中,对所有的弹性散射均采用精确的Mott弹性散射截面.而对非弹性散射,当...
5.
液态金属离子源发射系统的电场计算
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
20-26
摘要:
针对液态金属离子源的发射系统属于轴对称系统的特点,采用动态喷流柱模型,利用模拟电荷法对液态金属离子源发射系统的电场进行了计算,结果表明,该方法计算精度高,非常适合于电子束、离子束系统发射极附...
6.
《低温与特气》2006年征订启事
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
26
摘要:
7.
热压印光刻技术复制波带片图形研究
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
27-30
摘要:
针对只需单次曝光的菲涅尔波带片器件,给出了结合电子束光刻和热压印光刻进行大规模复制的完整工艺路线,即首先采用电子束光刻制作热压印模版,之后用热压印光刻进行波带片的大规模复制,所制得的波带片图...
8.
烘焙工艺条件对厚胶光刻面形的影响
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
31-35
摘要:
采用厚层正性光刻胶AZ P4620进行光刻实验,考察了在前烘和坚膜阶段不同的工艺参数条件下的光刻胶浮雕面形的变化.实验表明,完全显影后光刻胶的浮雕面形受前烘工艺参数的影响很小,但其显影速率有...
9.
SU-8胶光刻工艺参数优化研究
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
36-41,80
摘要:
对基于SU-8胶的UV-LIGA技术进行了工艺优化,研究了光源波长和曝光时间对SU-8胶成型的影响.结果表明,光刻胶表面线宽变化随曝光时间增加先减少后增加,有一个极小值;侧壁角度先增加后减少...
10.
非晶氟化碳膜的制备与性能研究
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
42-47
摘要:
采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)的方法,以C4F8和CH4为源气体,在不同气体质量流量比R(R=m(CH4):m(CH4+C4F8))条件下制备了非晶氟化碳(a-C:F...
11.
《现代显示》2006年征订启事
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
47
摘要:
12.
斜拉梁结构的RF-MEMS开关制作研究
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
48-52
摘要:
介绍了一种新型斜拉梁结构的电容耦合式开关的制作.该开关的上电极采用斜拉梁支撑结构以提高上电极的平整性和开关整体的可靠性,通过优化开关的结构,将开关的谐振点频率降低到20 GHz附近.制作过程...
13.
MEMS器件中电极制作工艺的研究
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
53-56
摘要:
研究了常用的国产BP212正型紫外光刻胶和光学曝光机在利用剥离工艺制备电极中的适用性.结果表明,采用国产的光刻胶和曝光设备完全可以得到实用性的带有凹面的光刻胶剖面和线条均匀性达到微米级的金属...
14.
PDMS微流控光纤芯片的研制
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
57-61
摘要:
用集成在芯片上的光纤作为激发光源,可使激发光斑的大小与微流控沟道的深度尺寸相接近,提高了检测灵敏度,省去了光学聚焦系统.利用二次曝光的方法制作了PDMS光纤芯片,实现了光纤与沟道的对准.对P...
15.
叠层光刻胶牺牲层工艺研究
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
62-66
摘要:
通过溅射电镀种子层前预烘胶与严格控制烘胶温度变化速率、用KOH稀溶液去胶、再用稀腐蚀体系加以轻度超声干涉去除电镀种子层和使用丙酮与F117进行应力释放等方法改进工艺后,解决了在叠层光刻胶牺牲...
16.
Ar/CHF3反应离子束刻蚀SiO2的研究
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
67-70
摘要:
介绍了Ar/CHF3反应离子束刻蚀和离子束入射角对图形侧壁陡直度及刻蚀选择比的影响.使用紫外曝光技术在SiO2基片上获得光刻胶掩模图形,采用Ar+CHF3来刻蚀石英基片,调节二者的流量配比,...
17.
等离子体对低温定向生长碳纳米管的作用
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
71-75
摘要:
利用负偏压增强热丝化学气相沉积在低衬底温度(550℃)下催化生长了碳纳米管,并用扫描电子显微镜研究了它的生长过程,发现低温下碳纳米管能否定向生长依赖于等离子体功率,同时还发现碳纳米管在压强太...
18.
直线电机精密工作台运动控制器设计
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年3期
页码: 
76-80
摘要:
为了提高精密工作台的轨迹跟踪精度和动态响应性能,基于辨识出的控制对象离散化模型,利用极点配置方法设计了精密工作台运动控制器的前馈环节和反馈环节,构成具有两自由度结构的精密工作台运动控制系统....
微细加工技术基本信息
刊名
微细加工技术
主编
曾用名
主办单位
中国电子科技集团公司第48研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
chi
ISSN
1003-8213
CN
43-1140/TN
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湖南省长沙市
微细加工技术评价信息
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