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真空电子技术2011年出版文献
出版文献量（篇）
2372
总下载数（次）
7
总被引数（次）
8712
真空电子技术
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Vacuum Electronics
影响因子
0.1767
本刊1959年创刊，现为双月刊，国内外公开发行。是真空电子专业协会会刊，电真空情报网网刊，中国真空电子技术领域唯一的综合技术类刊物。设有专家论坛、研究报告、研究与设计、新技术、技术交流、工艺与应用、综述等栏目。主要刊登的是真空微波器件、离子器件真空开关器件等真空电子器件；CPT、CDT、PDP等显示器件和光电器件；照明光源；真空获得、测量、控制；气体分析；表面技术；电子材料及特殊工艺等方面的...
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主办单位：
北京真空电子技术研究所
期刊荣誉：
编辑质量奖
ISSN：
1002-8935
CN：
11-2485/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
100015
地址：
出版文献量（篇）
2372
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7
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8712
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 通过对高纯、细晶Al2O3陶瓷金属化层、金属化层被酸腐蚀后的陶瓷表面显微结构及金属化层中元素在金属化层与陶瓷中的分布情况分析,探讨了高纯、细晶Al2O3陶瓷的Mo-Mn金属化机理.研究发现高...
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62. 氧化铝陶瓷封接强度的统计分析刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 采用Weibull分布和正态分布,对氧化铝陶瓷封接强度进行统计分析,并通过Weibull模数和变异系数来表征了材料强度的离散性.同时通过Weibull分布,比较了标准组合抗拉强度、拉钉强度和...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文研制出一种性能优异的适用于Sn1.0Ag0.5Cu焊膏的无卤素松香型助焊剂,用润湿性和腐蚀性作为衡量标准,并按照助焊剂的主要性能指标对这三种配方进行了综合性能评价.
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64. 陶瓷冷等静压成型技术刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 主要介绍等静压成型技术在特种陶瓷制备中的应用,包括陶瓷等静压成型的应用实例、模具和包套的设计、特殊形状陶瓷制品的成型实例,以及等静压成型中常见象足缺陷的对策等.
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 采用挤出成型法制备锰酸锶镧-氧化钇稳定氧化锆(LSM-YSZ)阴极支撑管,利用浸渍-提拉泥浆涂覆法在LSM-YSZ阴极支撑管上制备了LSM-YSZ阴极功能层、YSZ电解质和NiO-YSZ阳极...
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66. 当前直接覆铜技术的研究进展刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 叙述了近期国内外关于直接覆铜(DBC)技术的发展动态,指出DBC技术在电力电子模块、LED器件以及半导体制冷等领域的广泛应用,特别是AlN基片的DBC工艺研究应该引起有关科技人员的关注.
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 针对陶瓷金属封接,分别采取了打磨法和酸洗法两种不同的方法对陶瓷金属化层的表面状况进行处理,得到了两种不同的表面状态.利用划痕测试法,分析比较了两种方法制备试验件表面的电镀镍层的结合力情况.进...
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68. 钨带冷弯时断裂原因分析刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 钨带在90°弯曲时发生断裂,通过分析发现,断裂钨带碳含量偏高,断口处分层并呈蜂窝式片状形貌,断口附近金相组织也显示出明显的带状组织,断口处组织呈纤维状,断口为脆性断口.建议将材料含量控制在0...
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69. 一种新型可重复利用荫罩掩膜技术刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 利用化学气相沉积、光刻和反应离子刻蚀等微细加工技术,可以制作柔性、低成本、结实耐用、生物科技和半导体技术兼容、可重复使用的聚对二甲苯C荫罩掩膜.利用这种透明的惰性材料掩膜,可以制作出传统平面...
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70. 窄脉冲刚管调制器刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 雷达发射机和高功率微波装置对大功率刚管调制器的需求越来越大,尤其是窄脉冲调制器非常重要.随着大功率半导体开关器件技术的进步,窄脉冲刚管调制器逐渐变为现实.为了降低成本、满足系统小型化的要求,...
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71. 一种行波管用增益均衡器的设计刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 增益均衡器作为行波管的常见附件,对行波管的性能有着明显的影响,是保证行波管宽带等激励工作的重要手段.本文探讨一种大功率行波管用增益均衡器,在满足行波管使用要求的前提下,可以为行波管提供更好的...
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72. 新控制方式前向波放大管刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 前向波放大管作为一种微波功率放大器件,在雷达领域具有重要的用途.本文提出了一种新的直流应用前向波放大管控制方式,这种控制方式有助于提高前向波放大管的稳定性和可靠性.
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73. 多功能超高真空高频除气系统的研制刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 通过介绍一台超高真空高频加热系统的研制过程,探讨了该类系统在设计制造中的难点和解决方案.
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74. Ka波段30W空间行波管刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 介绍了未来星际通讯用Ka波段30W空间行波管的最新研究进展.行波管电子枪采用传统的皮尔斯型电子枪,高频结构采用螺旋线慢波结构和品型夹持结构,为了保证较高的收集极效率,采用四级降压收集极.测试...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 介绍了对覆锇扩散阴极锇膜与钨基间互扩散过程的研究结果.通过SEM对不同工作时间的阴极发射表面及纵向剖面的形貌进行分析,采用EDS对实验阴极的表面及纵向剖面进行元素成分的分析.研究表明,随工作...
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76. 大功率行波管散热系统模拟刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 以大功率行波管高频散热系统为原型,利用通用有限元分析软件MSC.Marc对其进行了散热分析,并利用FLUENT流体分析软件对原有的水路通道进行了优化设计.经实际测试验证,优化后的设计大大提高...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 慢波系统的功率容量是制约行波管平均功率提高的关键因素之一,特别是对于采用周期永磁(PPM)聚焦方式的耦合腔行波管更是如此.本文正是针对上述问题,研究了提高耦合腔行波管慢波系统散热能力的途径以...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文简要分析了脊形波导窗的结构,介绍了WRD650双脊波导窗在实际制管中的应用,测试结果表明脊形波导窗应用于宽带大功率行波管是可行的.
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79. 电子阱在多级降压收集极中的应用刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文主要介绍在多级降压收集极中应用处于第一收集极之后相对于第一收集极为高电位的附加电极,使得该电极与第一收集极之间的区域形成了一个捕获二次电子的电子阱,从而使该收集极在获得高效率的同时,具有...
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80. 提高宽带毫米波行波管效率研究刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 针对影响宽带毫米波行波管效率的主要因素,对提高行波管效率的相关实用化技术进行了研究.通过螺旋线线路渐变技术、降低高频损耗、多级降压收集极三个方面的研究,使现有某一宽带毫米波行波管总效率由原来...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文介绍了一种Ka波段连续波250 W螺旋线行波管研制的主要技术方案.介绍了这种行波管的研究现状和研制成果.
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82. 超宽带毫米波行波管刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 简要介绍最新的超宽带毫米波连续波行波管研制工作进展情况.连续波行波管样管在18～40 GHz频带内,输出功率达到40W.
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83. 毫米波脊形波导窗封接应力仿真研究刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 针对某新型毫米波脊形波导窗封接成品率低的问题,本文利用ABAQUS软件对其封接过程中产生的非线性封接应力进行了仿真分析和研究,并对其结构进行了优化设计,有效的解决了其封接成品率过低的问题.
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 针对W波段过模行波管可能采用的两种梯形线慢波电路结构进行了模拟计算,分析了工作在过模情况的可能性.结果表明传统梯形线慢波电路并不适合工作于高次模式,而悬浮梯形线慢波电路在第三个模式则有着相对...
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85. 电子枪设计制造工艺与阴极性能分析刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文从结构、材料、工艺方法等几个方面阐述了电子枪设计制造工艺过程,根据工作实践分析了电子枪设计与阴极性能的关系.
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86. 真空开关管的市场分析和发展趋势刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 采用行业季报、年报数据对真空开关管行业的市场发展现状、产业发展环境进行了分析,研究了对制造过程中影响质量的关键因素,就开关管市场发展中存在的问题、对协会在产业发展中面临一些的机遇提出自己的想...
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87. 裸视3D显示技术概述刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 裸视三维(3D)显示中,观看者无需配戴眼镜等任何助视设备就能观看到立体效果.随着人们对3D显示的认识不断加深,已提出多种裸视3D显示技术.本文综述了目前主流的裸视3D显示技术,包括光栅3D显...
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88. 助视3D显示技术概述刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 助视3D显示是指需要借助于3D眼镜等助视设备才能观看到3D图像的显示方式,它包括分色3D显示、偏振光3D显示和液晶快门3D显示.助视3D显示是目前最成熟的3D显示方式,近几年其相关技术及器件...
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89. 集成成像立体显示技术性能改进研究刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 集成成像是一种利用微透镜阵列来记录和再现3D空间场景的真3D显示技术.本文主要针对传统集成成像技术中存在的黑边、视角窄、记录速度慢和深度计算不准确等问题,进行了深入地分析与研究.文中建立了相...
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90. 集成成像立体显示技术研究进展刊名： 真空电子技术发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 集成成像立体显示是一种水平和垂直方向同时具有运动视差的真三维立体显示技术.本文概述了集成成像立体显示在显示三维图像时存在的景深范围小,视角范围窄,赝像等问题,介绍了提升景深范围、扩大视角、消...
真空电子技术基本信息
| 刊名 | 真空电子技术 | 主编 | 廖复疆 |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 北京真空电子技术研究所 | 主管单位 | 工业和信息化部 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1002-8935 | CN | 11-2485/TN |
| 邮编 | 100015 | 电子邮箱 | VETECH@163.com |
| 电话 | 010-84352012 | 网址 | |
| 地址 | 北京749信箱7分箱 |
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