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真空科学与技术学报2004年出版文献
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
真空科学与技术学报
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本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 光学发射光谱(OES)方法是等离子体诊断的有力工具之一,可以定量地给出等离子体的多种重要参数,如等离子体中的物种成分、粒子能态分布、激发温度、粒子相对密度等.本文介绍了一种用于电子回旋共振(...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 用激光分子束外延研究了SrTiO3同质外延时原位退火中,反射高能电子衍射(RHEED)强度的恢复--驰豫时间,导出了高真空下表面扩散的活化能为0.31 eV,与低真空下的结果相比要小许多,这...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 低价硫化铝法从氧化铝直接炭还原制铝的动力学过程极为复杂,过程的前期受界面化学反应控制,过程后期受扩散过程控制,并求得不同时期的活化能,反应前期:E1=63.81 kJ/mol(6.67 Pa...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 采用Ar、N2和SiH4混合气体反应溅射制备了一系列不同Si含量的Ti-Si-N复合膜,用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了复合膜的微结构和力学性能.结果表明,通过控制混合气体中SiH...
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65. 氟化类金刚石薄膜的研究进展刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 氟化类金刚石(FDLC)薄膜是在传统类金刚石膜基础上发展起来的一种新型表面改性材料.本文简述了FDLC薄膜的结构、性能,重点介绍了其制备工艺,讨论了源气体的种类和退火工艺对薄膜的影响.
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 本文根据光谱匹配系数的表达式,计算了超S25(Super S25)和新S25(New S25)光电阴极与粗糙混凝土的光谱匹配系数.在满月光和晴朗星光下:超S251与绿色草木的光谱匹配系数分别...
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67. 关于辅助沉积霍尔离子源的几个问题刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 本文目的在于改进霍尔源的设计,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源.
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 石英玻璃衬底在金刚石粉和丙酮形成的悬浮液中超声波预处理,有效提高了金刚石成核密度.在最佳预处理和热丝化学气相沉积条件下,成核密度高达1010 cm-2以上.采用HFCVD中四步法生长工艺,制...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 在电子束蒸发镀膜的基础上,引入低压反应离子镀工艺制备WO3电致变色薄膜,研究不同氧分压对WO3薄膜电致变色特性的影响,实验结果表明制备时选择工作气体氩气分压为2×10-2 Pa,氧分压为4×...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)设备在狭缝的侧壁上沉积Ti-Si-N薄膜.经微观物相分析发现,在狭缝的侧壁上随着测试深度的增加,薄膜中Ti元素逐渐减少,Si含量增加,薄膜的相组...
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71. 微波热处理在钛的硅化工艺中的应用刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 采用微波等离子体退火方法使溅射的金属Ti膜与Si(111)衬底发生固相反应,直接生成低阻态的金属硅化物薄膜,XRD检测显示最终生成的C54相TiSi2在Si(111)衬底上有明显的织构,证明...
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72. 蓝宝石输出窗的成功封接刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 基于多弧离子镀技术,结合特殊的封接结构和工艺技术,成功地实现了蓝宝石输出窗的真空气密封接.通过试验,证明封接的蓝宝石输出窗具有良好的真空气密性能、抗热烘烤冲击能力、较好的抗拉强度.这一成功为...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 在有机材料柔性衬底上沉积ITO膜,需要在低温及无损伤(即避免离子轰击及热损伤等)情况下进行.为满足此要求,采用电子束蒸发法来实现在PI衬底上沉积ITO膜,对沉积参数如电子束特性、氧分压及衬底...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 本文采用MEMS工艺制作接触式串联射频开关,射频开关采用双端固定的悬臂梁结构,悬梁为PECVD制作的SiN薄膜,溅射Au制作共平面波导,聚酰亚胺作为牺牲层,运用等离子体刻蚀法释放牺牲层.研究...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 通过改变偏压功率和气体气压的宏观条件,利用CHF3,Ar和H2的感应耦合等离子体(ICP)对HfO2和RZJ-306光刻胶进行了刻蚀选择性实验研究.结果表明,HfO2与等离子体化学相互作用的...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 研究了HfO2薄膜在CHF3/Ar和SF6/Ar等气体中的反应离子刻蚀机理.结果表明刻蚀气体的组分和射频偏压对刻蚀速率有较大影响,而气体流量影响不大.CHF3和SF6与HfO2的反应产物具有...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年4期页码:摘要： 研制了一台永磁ECR等离子体化学气相沉积系统.通过同轴开口电介质空腔产生表面波,利用高磁能积Nd-Fe-B磁钢块的合理分布形成高强磁场,通过共振磁场区域内的电子回旋共振效应产生大面积均匀的高...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl片和石英上沉积ZrO2薄膜.薄膜厚度80 nm～100 nm.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线能谱仪、分光光度计和原子力显微镜研究了...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 研究了沉积在硅油表面Al薄膜的特征表面形貌(一类具有准周期特征的带状结构)及其形成过程.实验发现:沉积结束后,随着Al薄膜样品在真空室中放置时间Δt的增加,Al薄膜中首先出现带状且不均匀的物...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 利用中频交流磁控溅射技术制备了TiO2薄膜、Ag/TiO2复合薄膜和TiO2:MoO3复合薄膜,研究了TiO2薄膜的光生亲水性和防结雾特性,讨论Ag及MoO3对TiO2薄膜光生亲水性的影响....
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 在不同氮流量下,利用微波-ECR等离子体溅射沉积技术在45#钢基体上制备了ZrN薄膜.XRD、TEM分析结果表明:随着充入N2流量的改变,薄膜结构由单一的ZrN结构向ZrN和ZrNx复合结构...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 为了研究CaO的加入对MgO PDP介质保护膜晶面择优取向的影响,使用不同CaO含量的MgO+CaO膜料,在不同的基底温度和沉积速率下进行电子束蒸发沉积,并对形成的Mg1-xCaxO膜进行了...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 利用强流脉冲电子束(HCPEB)技术对碳素钢进行了表面改性处理.利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对改性试样的表面性质进行了分析,结果表明:样品表面出现了"火山坑"状的凹坑,淬火态...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 利用直流反应磁控溅射以Al、N共掺杂的方法生长p-ZnO薄膜.ZnO薄膜沉积于具有不同衬底温度的玻璃或Si衬底上,N来自NH3与O2的生长气氛,Al来源于AlxZn1-x(x=0.08%)靶...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 通过改变制备NiO薄膜的氩气压和衬底材料,研究了NiO的结构、表面粗糙度对NiO/CoFe双层膜交换耦合场Hex的影响.实验表明完全自旋未补偿面与交换耦合场的产生没有直接联系,但交换耦合场H...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 利用对PV-10型压电阀定标实验,研究了中性束注入器Tank内补充气体的参数对离子源放电弧电流的影响,对比压电阀脉冲电源的脉宽和幅值,显示后者对Tank内补充气体量具有更显著的线性关系.据此...
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87. 真空蒸镀聚乙烯醇薄膜刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 采用真空蒸发沉积(蒸镀)聚乙烯醇薄膜,通过SEM和光学显微镜观察聚乙烯醇薄膜呈现典型的岛状形式并均匀分布于衬底表面,且以梯田状台阶式长大.衬底温度是影响PVA薄膜沉积速度的主要因素.红外光谱...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 本文利用脉冲真空弧源沉积技术在Cr17Ni14Cu4不锈钢和Si(100)基体上制备了类金刚石(DLC)薄膜,研究在不同基体偏压下,DLC薄膜的结构与性能.采用拉曼光谱和X射线光电子能谱(X...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 本文采用铸造合金靶材和离子束溅射(IBS)技术制备TbDy-Fe超磁致伸缩薄膜(GMFs),研究了不同溅射方位(α角)对冷基片成膜过程和薄膜性质的影响.结果表明,在给定的溅射角范围内,薄膜表...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2004年5期页码:摘要： 采用金属等离子体浸没离子注入与沉积技术在9Cr18轴承钢基体表面合成了类金刚石薄膜.研究了注入脉宽和工作气压对合成薄膜性能及化学组成的影响;通过激光Raman光谱、维氏硬度、针盘试验和电化学...
真空科学与技术学报基本信息
| 刊名 | 真空科学与技术学报 | 主编 | 吴锦雷 |
| 曾用名 | 真空科学与技术 | ||
| 主办单位 | 中国真空学会 | 主管单位 | 中国科学技术协会 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1672-7126 | CN | 11-5177/TB |
| 邮编 | 100022 | 电子邮箱 | vst@chinesevacuum.com |
| 电话 | 010-58206280 | 网址 | |
| 地址 | 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室 |
真空科学与技术学报评价信息
该刊被以下数据库收录
| 1. | 化学文摘(美) |
| 2. | 中国科学引文数据库 |
| 3. | 日本科学技术振兴机构数据库(日) |
| 4. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
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