真空科学与技术学报期刊
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量(篇)
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19905
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  • 作者: 吴卫东 曹林洪 沈军 白黎 葛芳芳
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  341-345
    摘要: 本文采用反射式高能电子衍射(RHEED)监测脉冲激光沉积法制备钛酸铅薄膜过程.根据PbTiO3/MgO(001)薄膜、PbTiO3/Si(100)薄膜生长过程中RHEED强度的时间演变,分析...
  • 作者: 周建新 张莉 徐宏 戴玉林 马秋林
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  346-350
    摘要: 为了抑制乙烯裂解炉管内表面结焦,采用常压化学气相沉积方法在HP40试样上制备了SiO2/S涂层.用SEM和Raman光谱研究了沉积温度、源物质分压以及气体流速对SiO2/S涂层形貌和结构的影...
  • 作者: 刘纯亮 张小宁 梁志虎
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  351-354
    摘要: 针对AC PDP传统维持驱动方法存在零电压状态,造成两次维持放电之间壁电荷损失的问题.本文提出了一种AC PDP高阻维持驱动方法,在该方法中,采用高阻状态替换了传统维持驱动方法中的零电压状态...
  • 作者: 孙汪典 朱汉明 苗银萍
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  355-358
    摘要: 以ZnS、Mg粉末为原料,应用双源真空蒸镀法,在石英玻璃衬底上成功地制备了不同Mg含量x的三元固溶体半导体Zn1-xMgxS薄膜.根据薄膜的X射线能量色散谱、X射线衍射谱和紫外-可见吸收光谱...
  • 作者: 冯洁 李福泉 王永强 石海平 陈翔
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  359-363
    摘要: 本文采用直流磁控溅射沉积了结构为NiFeCo(缓冲层)/[Cu/NiFeCo]×10/ Ta,巨磁电阻(GMR)值为9.8%的多层膜,利用微细加工技术制备了基于此GMR多层膜的生物传感器,G...
  • 作者: 刘升光 牟宗信 王振伟
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  364-368
    摘要: 在反应溅射工艺中,反应气体流量和沉积速率、反应气体气压、靶电压之间存在迟滞关系.为了保证反应溅射稳定以及保持溅射率高和反应气体利用率高,需要对反应溅射系统进行精确控制.PID神经网络(PID...
  • 作者: 崔渊 李晓华 郑姚生
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  369-374
    摘要: 等离子体显示器面板的电磁屏蔽膜,既要满足对规定的电磁辐射波段进行屏蔽的要求,又需要有良好的可见光透过率和对非三基色波段的光的吸收能力,以提高图象画面的显示质量.本文通过实验的方法,在某商品屏...
  • 作者: 丁耀根 王勇 阮存军 阮望
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  375-379
    摘要: 带状注速调管是采用宽高比值很大的薄矩形注来降低空间电荷效应,采用特殊的高频结构来增加功率容量,从而使注波互作用效率得到提高的一种新型微波电真空器件.本文对工作在π模状态下的X波段带状注速调管...
  • 作者: 刘濮鲲 姜勇 李国超 肖刘
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  380-385
    摘要: 螺旋线行波管中返波振荡是影响行波管设计的重要问题,行波管中当高频信号滞后于高压信号或者高频信号脉宽小于高压信号时,也就是在高电压信号的上升和下降沿,这时没有高频信号但返波振荡也有可能被激起,...
  • 作者: 付成芳 宫玉彬 王文祥 魏彦玉
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  386-390
    摘要: 介绍了用ANSOFT公司提供的HFSS 10.0软件模拟计算色散特性和耦合阻抗的理论方法,并对矩形螺旋线慢波结构的高频特性进行了数值模拟.结果表明:和传统的圆螺旋线结构相比,矩形结构具有更高...
  • 作者: Paul K.Chu 巩春志 李景 杨士勤 汪志健 田修波
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  391-397
    摘要: 类金刚石膜(Diamond-like Carbon,DLC)具有优异的气体阻隔性能.在PET瓶体内表面制备DLC阻隔涂层时,阻隔涂层的均匀性会受到瓶体内流场结构(气压分布、速度分布等)的显著...
  • 作者: 唐华 孙建 张叶 李学超 李长生 金岚
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  398-402
    摘要: 采用MoS2/WS2复合靶材在不锈钢和硅基片上溅射MoS2/WS2纳米薄膜,通过多次实验,得到溅射MoS2/WS2薄膜的最佳工艺如下:溅射气压4.0Pa,靶基距为70mm,溅射功率为150W...
  • 作者: 任大海 尤政 田景峰
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  403-410
    摘要: 变发射率热控技术是空间环境下的重要热控手段.微小卫星质量轻,尺寸小,功耗低及其真空环境工作等特点对热控系统提出了新的要求,相应热控器件应具有小质量、大发射率调节比、关闭状态漏热小、响应快等特...
  • 作者: Seiichi Miyazaki 彭英才 徐骏
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  411-418
    摘要: 利用纳米结构材料作为光阳极制备的染料敏化太阳电池被称为纳米结构染料敏化太阳电池(NDSSC).一般而言,它由纳米结构金属氧化物半导体的光阳极、染料敏化剂,电解质和对电极等几个部分组成.目前,...
  • 作者: 赵绍英 邓炳耀 高卫东 魏取福
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  419-422
    摘要: 室温下,结合正交实验表,用射频磁控溅射在涤纶(PET)非织造布基材上生长AZO(Al2O3:ZnO)纳米结构薄膜.采用四探针测量仪测试AZO薄膜的方块电阻,用原子力显微镜(AFM)分析薄膜微...
  • 作者: 任鹏 刘忠良 刘科 唐军 徐彭寿 潘国强
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  423-426
    摘要: 分别在未沉积Ge和不同衬底温度(300、 500、700℃)沉积Ge条件下,利用固源分子束外延(SSMBE)技术在Si衬底上外延SiC薄膜.通过反射式高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(...
  • 作者: 朱兴华 杨军 杨定宇 郑家贵 高秀英 魏昭荣
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  427-430
    摘要: 采用电子束蒸发工艺在普通玻璃衬底上制备了硫化镉(CdS)多晶薄膜,研究了不同衬底温度对薄膜结构、表面形貌及光透过率的影响.测试结果显示:(1)不同衬底温度下沉积的CdS薄膜均呈现了〈002〉...
  • 作者: 王伟华 王德苗 苏达
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  431-434
    摘要: 显示技术正朝着柔性化、超薄化方向发展,低温制备柔性ITO薄膜已经成为一大趋势.本文在射频磁控溅射过程中,引入在线紫外辐照,室温条件下在有机衬底上制备柔性ITO薄膜的工艺,其最低方块电阻为5Ω...
  • 作者: 曾宇悟 汪荣顺 陈树军 魏蔚
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  435-439
    摘要: 测定了几种组合吸附剂在低压室温下的吸氢等温线,该组合吸附剂是由5A分子筛和含有不同比例PdO和Ag2O的吸气剂组成的.本文对这些吸氢等温线进行了分析,拟合出在一定范围内适用的吸氢等温方程式....
  • 作者: 李跃进 杨银堂 柴常春 贾护军
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  440-443
    摘要: 对比研究了SiC材料在CF4+O2混合气体中的ICP刻蚀和RIE刻蚀,获得了刻蚀速率、刻蚀表面粗糙度随刻蚀功率、偏置功率、工作真空、氧含量等工艺条件的变化规律,研究结果表明,通过牺牲一定的刻...
  • 作者: 刘忠伟 徐勇 朱爱民 王健 赵国利
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  448-452
    摘要: 搭建了一套以可调谐半导体激光器为光源的连续波光腔衰荡光谱装置,将其与微波等离子体装置结合,对等离子体中的OH自由基进行了原位定量测量,同时考察了OH自由基数密度随气压和微波功率的变化情况.实...
  • 作者: 卢维强 张民 李小龙 贾秋平
    发表期刊: 2009年4期
    页码:  457-460
    摘要: 本文介绍了使用宽光谱监控系统镀制增透膜的基本原理和技术特点.给出了针对不同的膜层特性计算评价函数的方法,分别为能量法和特征点法,能量法适合膜层的光学特性对每一个波长点的权重要求都是一样的,特...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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