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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
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真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
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  • 1. 磁控溅射法制备CIGS薄膜太阳能电池的工艺及性能研究
    作者： 刘江 庄大明 曹明杰 栾和新
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  661-668
    摘要： 采用磁控溅射方法直接溅射铜铟镓硒(CIGS)靶材,制备得到了用于太阳能电池吸收层的CIGS薄膜,然后在Se气氛中对该CIGS薄膜进行退火处理.采用扫描电镜、X射线衍射、Raman、XRF、H...
  • 2. 铜基NiCr系太阳光吸收薄膜制备及性能分析
    作者： 王国栋 裘一冰 陈长琦
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  669-673
    摘要： 基于等效媒质理论设计了NiCr四层渐变膜系.以4∶1的NiCr合金靶材,氧气和氮气为反应气体,氩气为工作气体,用磁控反应溅射法制备蓝色NiCr系太阳能光谱选择性吸收薄膜.测试分析薄膜成分、微...
  • 3. TiZrV吸气剂薄膜的性能研究
    作者： 尉伟 张波 张玉方 李为民 洪远志 王勇 王建平 范乐 裴香涛
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  674-677
    摘要： 采用独立设计组装的磁控溅射装置完成了对不锈钢管道的镀TiZrV薄膜处理.对TiZrV薄膜的相关性能包括二次电子产额(SEY)、光致解吸(PSD)产额和吸气性能进行了研究.在200℃下加热2h...
  • 4. 真空蒸镀红荧烯薄膜及其形貌分析
    作者： 孔乐 崔敏 康成龙 杨冰 杨萍 满超 邓金祥
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  678-681
    摘要： 红荧烯(rubrene)即5,6,11,12-四苯基并四苯,是一种重要的小分子有机半导体材料,可以用以制备红荧烯有机场效应管和太阳能光伏器件.本文首先对传统的热蒸发真空系统进行改造,使之能蒸...
  • 5. 脉冲电沉积法制备SnS薄膜及其光电性质研究
    作者： 喀哈尔·玉苏普 徐岭 徐骏 林涛 耿雷
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  682-687
    摘要： 在ITO玻璃衬底上使用脉冲电沉积法制备了SnS薄膜,研究了不同的开启脉冲电位对薄膜表面,薄膜结构以及光学性质的影响.结果表明,在不同开启脉冲电位下制备出来的SnS薄膜的禁带宽度可以在1.3～...
  • 6. 光可控气致变色节能窗的应用研究
    作者： 冯伟 吴广明 张增海 高国华
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  688-692
    摘要： 报道了以钨粉、双氧水和TEOS为原料,采用溶胶-凝胶结合浸渍提拉镀膜技术,制备了SiO2复合WO3气致变色薄膜.通过扫描间,透射电子显微镜,紫外可见分光光度计表征了SiO2复合对WO3结构、...
  • 7. 溶液法制备MgB2超导膜研究
    作者： 冯庆荣 郭峥山 陈艺灵
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  693-699
    摘要： 介绍了利用溶液法制备Mg(BH4)2前驱体,进而在衬底上涂抹粘稠的Mg(BH4)2乙醚溶胶(Mg(BH4)2·Et2O)制备MgB2厚膜的方法,也可称为溶胶凝胶法制备MgB2.运用此种方法制...
  • 8. 热电薄膜与薄膜温差电池研究进展
    作者： 张东平 梁广兴 范平 郑壮豪
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  700-704
    摘要： 热电材料是一种能够实现热能和电能直接相互转换的绿色环保型功能材料.近年来研究发现,薄膜热电材料及其器件有高的热电转换效率和实用性,具有重要的研究价值和市场实用价值.本文首先介绍国内外低温Bi...
  • 9. 氧离子能量对离子束辅助沉积Al2O3薄膜的结构及光学性能的影响
    作者： 冯煜东 王志民 王艺 王虎 王金晓 赵慨 速小梅
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  705-709
    摘要： 利用氧离子束辅助脉冲反应磁控溅射技术在聚酰亚胺基底上沉积Al2O3薄膜.这项技术在溅射高纯铝靶材的同时利用低能氧离子进行氧化来控制薄膜的化学配比.研究了薄膜沉积过程中离子束辅助的作用以及离子...
  • 10. 空间光学薄膜技术
    作者： 张玲 李晨 熊玉卿 王多书 王济洲 董茂进 陈焘
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  710-716
    摘要： 随着空间技术的快速发展,光学薄膜技术在我国空间技术中的应用越来越显著,应用领域也越来越广泛.本文概述了目前光学薄膜技术在我国空间技术领域的应用情况以及未来可能的应用领域.鉴于空间环境的特殊性...
  • 11. 膜厚对导电氧化锌宽带抗反射涂层的太赫兹传输影响
    作者： 李栋 沈杰 罗胜耘 马国宏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  717-721
    摘要： 利用直流磁控溅射方法,在石英基底上制备了可用于太赫兹电磁波频率范围内的宽带抗反射涂层的掺铝氧化锌导电薄膜.在太赫兹时域光谱频率0.1～1.0 THz范围内研究不同厚度的氧化锌薄膜的介电响应,...
  • 12. 溅射沉积CuO薄膜的光学和电学特性
    作者： 刘卫国 王俪蓉
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  722-726
    摘要： 以金属铜为靶材,氧气为反应气体,保持200℃的基底温度不变,通过调节氧氩比(OFR)和反应压强,利用直流反应磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了一系列氧化铜薄膜.利用能谱对薄膜材料的元素含量进行测...
  • 13. 基体温度对中频脉冲非平衡磁控溅射技术沉积类金刚石薄膜结构与性能的影响
    作者： 代海洋 展长勇 翟凤潇 陈镇平
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  727-731
    摘要： 利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术在不同的基体温度下制备了类金刚石(DLC)薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备DLC薄膜的微观结构、机械性能、光...
  • 14. 硅碳氧薄膜光学性能研究
    作者： 张平 李晨 王多书 陈焘
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  732-735
    摘要： 硅碳氧(SiCO)薄膜是一种三元玻璃状化合物材料,具有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高等特性,是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜材料.本文采用射频磁控溅射技术在Si(100)及K9玻璃...
  • 15. 诱导磁场对化学沉积Co-Ni-P薄膜磁性能的影响
    作者： 于广华 王海成 王立锦 龚占双
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  736-739
    摘要： 采用化学湿法沉积技术制备了CoNiP磁性薄膜,研究了施镀过程中的诱导磁场对CoNiP薄膜磁性能和结构的影响.研究结果表明,随着施加诱导场强度的增加,CoNiP薄膜的矫顽力先增加,然后减小；当...
  • 16. 氩气流量对四面体非晶碳膜结构和摩擦性能的影响
    作者： 方勇 杨巍 柯培玲 汪爱英 蔡建
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  740-745
    摘要： 利用自主研制的45°单弯曲阴极电弧沉积系统,通过改变Ar流量(2,5以及10 ml/min),在p型(100)硅基底上制备了四面体非晶碳膜.借助表面轮廓仪测定薄膜厚度和粗糙度变化；采用X射线...
  • 17. 等离子体激活电子束物理气相沉积NiCoCrAlY涂层的制备及微观组织结构研究
    作者： 宫声凯 常健 彭徽 郑蕾 郭洪波
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  746-750
    摘要： 针对传统电子束物理气相沉积(EB-PVD)制备的柱状晶结构MCrAlY涂层存在线性缺陷的问题,本文建立了等离子体激活EB-PVD(PA EB-PVD)设备,并采用PA EB-PVD技术制备出...
  • 18. 反应磁控溅射制备氮化钽扩散阻挡层的研究
    作者： 曹世成 朱嘉琦 贾振宇
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  751-757
    摘要： 采用反应磁控溅射在硅衬底上制备了TaN薄膜,研究了氮分压、溅射功率及衬底温度对薄膜晶体结构、表面形貌和电学性能的影响.结果表明,晶体结构随工艺参数的改变发生变化,GIXRD图谱衍射峰强度随溅...
  • 19. 电子束退火制备二硼化镁超导薄膜的可行性研究
    作者： 冯庆荣 初明璋 孔祥东 戴倩 李建国 薛虹 韩立
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  758-762
    摘要： 提出了电子束退火制备MgB2超导薄膜新工艺.在对电子束退火制备MgB2超导薄膜可行性进行理论研究的基础上,使用EBW-6型电子束热处理设备,在真空度5.0×10-3 Pa、加速电压40kV、...
  • 20. 直流反应磁控溅射法制备太阳电池用ITO透明导电膜
    作者： 崔敏 张维佳 段苹 邓金祥
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2012年8期
    页码:  763-766
    摘要： 采用直流反应磁控溅射法制备了ITO透明导电薄膜,针对氧流量、溅射气压、溅射电流3种工艺参数对ITO薄膜电阻率和可见光区透射率的影响进行了分析和研究.结果表明:从ITO薄膜作为太阳电池用减反射...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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