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场发射俄歇电子能谱显微分析
显微分析
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内容分析
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文献信息
篇名 俄歇电子谱术及微区分析
来源期刊 LSI制造与测试 学科 工学
关键词 俄歇电子谱术 微区分析 AES
年,卷(期) 1990,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 29-34
页数 6页 分类号 TH838.2
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DOI
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1990(0)
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研究主题发展历程
节点文献
俄歇电子谱术
微区分析
AES
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
LSI制造与测试
双月刊
31-1459/TN
上海江西中路450号
出版文献量(篇)
366
总下载数(次)
0
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0
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