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X射线光刻
对准系统
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用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅
X射线光刻
PHEMT
T型栅
三层胶工艺
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成核
金刚石薄膜
MPCVD
X射线光刻掩模
电子束和X射线光刻制作高分辨率微波带片
电子束
X射线光刻
微波带片
菲涅耳波带片
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 IBM公司1980—1992年X射线光刻的发展
来源期刊 光机电世界 学科 工学
关键词 X射线光刻机 光刻机 曝光系统 光源
年,卷(期) 1994,(12) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1-7
页数 7页 分类号 TN305.7
字数 语种 中文
DOI
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1994(0)
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研究主题发展历程
节点文献
X射线光刻机
光刻机
曝光系统
光源
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光机电世界
月刊
CN 22-1142/TH
长春市1024信箱
出版文献量(篇)
195
总下载数(次)
1
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