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IBM公司1980—1992年X射线光刻的发展
IBM公司1980—1992年X射线光刻的发展
作者:
吴桂英
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X射线光刻机
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篇名
IBM公司1980—1992年X射线光刻的发展
来源期刊
光机电世界
学科
工学
关键词
X射线光刻机
光刻机
曝光系统
光源
年,卷(期)
1994,(12)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
1-7
页数
7页
分类号
TN305.7
字数
语种
中文
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光机电世界
主办单位:
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
CN 22-1142/TH
开本:
出版地:
长春市1024信箱
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创刊时间:
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195
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