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低损耗193 nm增透膜
193nm
增透膜
光学损耗
剩余反射率
精密光学元件制造中数据挖掘技术与应用的研究
精密光学元件
元件制造
数据挖掘技术
回归分析
机器人气囊抛光SiC光学元件加工特性研究
气囊抛光
碳化硅
去除函数
抛光头
193nm氟化物增透膜的特性
氟化物薄膜
193 nm增透膜
预镀层
基底
剩余反射率
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 193 nm光学元件向材料挑战
来源期刊 光电子技术与信息 学科 工学
关键词
年,卷(期) 1998,(1) 所属期刊栏目 元器件与技术
研究方向 页码范围 24-26
页数 3页 分类号 TN2
字数 2296字 语种 中文
DOI
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